[发明专利]通过等离子体增强的化学气相沉积形成涂层的方法

摘要

本发明提供了一种通过等离子体增强的化学气相沉积形成涂层的方法。更具体地说，本发明提供了分别产生线性的和二维的等离子体的新颖的线性的和二维的等离子体源，其对增强等离子体的化学气相沉积有用。本发明还提供了生产薄膜涂层的方法和提高所述方法的涂覆效率的方法。

主权项

一种通过等离子体增强的化学气相沉积(PECVD)形成涂层的方法，其包括：a)提供等离子体，该等离子体是线性的，并且其被设定为在基本上没有霍尔电流的情况下在其长度上基本上均匀；b)贴近所述等离子体提供前驱气体和反应气体；c)贴近所述等离子体提供基板，该基板具有至少一个待涂覆的表面；以及d)激励、部分分解或者完全分解所述前驱气体；以及e)利用PECVD将涂层沉积在所述基板的至少一个表面上；其中激励、部分分解或者完全分解所述前驱气体形成附着到所述基板的至少一个表面的可冷凝的分子组织。