[发明专利]用于化学气相沉积设备的载片盘转运装置

摘要

本发明公开了一种用于化学气相沉积设备的载片盘转运的装置，主要包括托盘、托盘导轨、中段导轨、缓冲腔导轨、限位块。本发明以3段导轨结构的方式实现托盘点对点准确和快速地在手套箱、缓冲腔及外界之间的转运，降低操作人员隔着手套箱使用手套装载晶圆片的操作难度，同时也可以提高设备工作效率。

主权项

一种用于化学气相沉积设备的载片盘的转运装置，其特点在于主要包括托盘（1）、托盘导轨（2）、中段导轨（3）、缓冲腔导轨（4）、限位块（5）；缓冲腔导轨（4）固定安装在化学气相沉积设备的缓冲腔（7），中段导轨（3）叠加安装在缓冲腔导轨（4）上面，托盘导轨（2）叠加安装在中段导轨（3）上面，托盘（1）叠加安装在托盘导轨（2）上用于放置载片盘；每段导轨两端分别设置有限位块（5），用于限制轨道上滑行端点位置；中段导轨（3）及以上叠加连接物体可以沿缓冲腔导轨（4）滑行，滑行区间为缓冲腔导轨（4）两端设置的限位块（5）之间；托盘导轨（2）及其以上叠加连接物体可以沿中段导轨（3）滑行，滑行区间为中段导轨（3）两端的设置的限位块（5）之间；托盘（1）及其以上安装的载片盘可以沿托盘导轨（2）滑行，滑行区间为托盘导轨（2）两端的限位块（5）之间；各滑行区间和导轨长度根据需要设置使托盘（1）能在手套箱（6）、缓冲腔（7）和外界之间实现转运工作。