[发明专利]一种波前调制暗场自适应光学视网膜成像仪有效
申请号: | 201410642859.2 | 申请日: | 2014-11-13 |
公开(公告)号: | CN104352214A | 公开(公告)日: | 2015-02-18 |
发明(设计)人: | 张雨东;赵军磊;戴云;杨金生;肖飞;康健;魏淩;赵豪欣;范真涛 | 申请(专利权)人: | 中国科学院光电技术研究所 |
主分类号: | A61B3/12 | 分类号: | A61B3/12;A61B3/14 |
代理公司: | 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 | 代理人: | 杨学明;李新华 |
地址: | 610209 *** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明公开了一种波前调制暗场自适应光学视网膜成像仪,属于视网膜成像技术领域。其特征是:在成像光路中的瞳面共轭位置处加入空间光调制器,并在其后光路中的视网膜特定层的共轭位置(焦面)处加入匹配滤波器(滤波光阑)。其工作原理是:通过空间光调制器调制瞳面波前改变焦面处的衍射光场分布,并在焦面处加入匹配的滤波器滤除来自视网膜特定层的衍射光,实现对视网膜该层的暗场成像,这提高了其相邻层结构的成像对比度。 | ||
搜索关键词: | 一种 调制 暗场 自适应 光学 视网膜 成像 | ||
【主权项】:
一种波前调制暗场自适应光学视网膜成像仪,其特征在于:该成像仪包含波前调制子系统和匹配滤波子系统:其中波前调制子系统包括波前调制器和控制装置,用于调制瞳面波前;匹配滤波子系统包括匹配滤波器,该匹配滤波器采用匹配滤波光阑,用于焦面滤波。
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