[发明专利]一种掩膜板、掩膜板组、彩膜基板及显示装置有效
申请号: | 201410645950.X | 申请日: | 2014-11-14 |
公开(公告)号: | CN104317158B | 公开(公告)日: | 2018-05-22 |
发明(设计)人: | 汪栋 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
主分类号: | G03F1/42 | 分类号: | G03F1/42;G02F1/1335 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供了一种掩膜板、掩膜板组、彩膜基板及显示装置,涉及显示技术领域,解决了彩膜层位置精度标识发生重叠和缩小位置精度标识尺寸引起的形状不规则的问题,保证所得到的色阻与黑矩阵相对位置偏差程度的准确性。其中掩膜板用于形成彩膜层,包括分别位于掩膜板四角处的四组彩膜层位置精度标识图形,每组彩膜层位置精度标识图形包括相互平行、沿横向排列且沿纵向延伸的两个条形的彩膜层位置精度标识图形,彩膜层位置精度标识图形的横向尺寸为a,a小于一个子像素的宽度。 | ||
搜索关键词: | 一种 掩膜板 掩膜板组 彩膜基板 显示装置 | ||
【主权项】:
1.一种掩膜板,用于形成显示装置中的彩膜层,所述彩膜层对应多个像素单元,所述彩膜层上对应每个所述像素单元具有横向排列的n种颜色的色阻,其特征在于,所述掩膜板包括分别位于所述掩膜板四角处的四组彩膜层位置精度标识图形,每组所述彩膜层位置精度标识图形包括相互平行、沿横向排列且沿纵向延伸的两个条形的彩膜层位置精度标识图形,所述彩膜层位置精度标识图形的横向尺寸为a,a小于一个子像素的宽度;其中n等于3或4。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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