[发明专利]一种红色LED芯片制程工艺中的P面蒸镀方法在审

专利信息
申请号: 201410647153.5 申请日: 2014-11-14
公开(公告)号: CN104393123A 公开(公告)日: 2015-03-04
发明(设计)人: 沈智广 申请(专利权)人: 无锡科思电子科技有限公司
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00;C23C14/24
代理公司: 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 代理人: 许方
地址: 214028 江苏省无*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种红色LED芯片制程工艺中的P面蒸镀方法,依次在CaAs衬底的任意一面上设置N-GaP-Si层、发光层、P-GaP-Mg层、第一Au层、AuBe层、第二Au层;其中,AuBe层的蒸镀温度为540℃~560℃,经过该温度所做的热处理,使得处理后的表面均匀、平整,其伏-安特性斜率大,接触电阻小。
搜索关键词: 一种 红色 led 芯片 工艺 中的 面蒸镀 方法
【主权项】:
一种红色LED芯片制程工艺中的P面蒸镀方法,包括如下步骤:步骤1、在CaAs衬底的任意一面上设置N‑GaP‑Si层;步骤2、在N‑GaP‑Si层上设置发光层;步骤3、在发光层上设置P‑GaP‑Mg层;步骤4、在P‑GaP‑Mg层上设置第一Au层;步骤5、在第一Au层上设置AuBe层;步骤6、在AuBe层上设置第二Au层;其特征在于:所述步骤4至步骤6采用蒸镀的方法设置,其中步骤5的蒸镀温度为540℃~560℃。
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