[发明专利]具有渐变锗组分本征层的非晶硅薄膜太阳电池及其制备方法在审
申请号: | 201410647780.9 | 申请日: | 2014-11-14 |
公开(公告)号: | CN104393087A | 公开(公告)日: | 2015-03-04 |
发明(设计)人: | 舒斌;张鹤鸣;魏璇;陈景明;宣荣喜;胡辉勇;宋建军 | 申请(专利权)人: | 西安电子科技大学 |
主分类号: | H01L31/065 | 分类号: | H01L31/065;H01L31/18 |
代理公司: | 北京世誉鑫诚专利代理事务所(普通合伙) 11368 | 代理人: | 郭官厚 |
地址: | 710071*** | 国省代码: | 陕西;61 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种具有渐变锗组分本征层的非晶硅薄膜太阳电池及其制备方法,从下往上依次包括氮化硅薄膜,玻璃层4;透明导电薄膜,P型重掺杂微晶Si薄膜,P型重掺杂氢化单晶碳化硅缓冲层,P型轻掺杂氢化非晶硅,本征氢化非晶硅锗薄膜,n型氢化非晶硅薄膜,背面的透明导电薄膜和铝衬底,所述氮化硅薄膜上设有正电极,所述铝衬底下端设有负电极。本发明加入双层氮化硅(SiN)结构,从而提高了减反射效果,使得太阳电池对入射光的吸收增强,有利于提高太阳电池的光电转换效率;本征层采用氢化非晶硅锗材料,其中锗组分在本征层是渐变的,拓宽了光谱响应范围,增加了电池对太阳光的吸收,从而增加了太阳电池的光电转换效率。 | ||
搜索关键词: | 具有 渐变 组分 非晶硅 薄膜 太阳电池 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
具有渐变锗组分本征层的非晶硅薄膜太阳电池,其特征在于,从下往上依次包括氮化硅薄膜,玻璃层;透明导电薄膜,P型重掺杂微晶Si薄膜,P型重掺杂氢化单晶碳化硅缓冲层,P型轻掺杂氢化非晶硅,本征氢化非晶硅锗薄膜,n型氢化非晶硅薄膜,背面的透明导电薄膜和铝衬底,所述氮化硅薄膜上设有正电极,所述铝衬底下端设有负电极。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西安电子科技大学,未经西安电子科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410647780.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的