[发明专利]三维存储器及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201410647980.4 申请日: 2014-11-13
公开(公告)号: CN105590934B 公开(公告)日: 2018-12-14
发明(设计)人: 萧逸璿;陈威臣 申请(专利权)人: 旺宏电子股份有限公司
主分类号: H01L27/11582 分类号: H01L27/11582;H01L27/11578
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 任岩
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种三维存储器及其制造方法。根据一实施例,此种三维存储器包括一薄膜晶体管。此一薄膜晶体管具有分开设置的一源极区及一漏极区。源极区包括一第一源极区及一第二源极区,第二源极区设置于第一源极区与漏极区之间。第一源极区为p型掺杂,第二源极区为n型掺杂,漏极区为n型掺杂。
搜索关键词: 三维 存储器 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种三维存储器,包括:一薄膜晶体管,具有分开设置的一源极区及一漏极区,其中该源极区包括一第一源极区及一第二源极区,该第二源极区设置于该第一源极区与该漏极区之间,且其中该第一源极区为p型掺杂、该第二源极区为n型掺杂、该漏极区为n型掺杂;其中该源极区与该漏极区均穿过由交替层叠的多个导电层及多个绝缘层构成的一叠层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于旺宏电子股份有限公司,未经旺宏电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410647980.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top