[发明专利]一种Si衬底GaN基肖特基势垒二极管器件的三维互联结构及三维互联方法有效

专利信息
申请号: 201410648060.4 申请日: 2014-11-14
公开(公告)号: CN104465631B 公开(公告)日: 2017-08-22
发明(设计)人: 刘扬;周桂林;张佰君 申请(专利权)人: 中山大学
主分类号: H01L25/07 分类号: H01L25/07;H01L23/532;H01L29/872;H01L21/60
代理公司: 广州粤高专利商标代理有限公司44102 代理人: 陈卫
地址: 510006 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明涉及一种Si衬底GaN基肖特基势垒二极管器件三维互联技术,包括两个或两个以上的二极管,单个二极管包括从下至上排列的Si衬底层(1)、GaN外延层(2)、电极层,其中所述电极层的阴极(3)和阳极(4)相对、且间隔开地设置在GaN外延层(2)上,其特征在于两个或者两个以上的二极管键合成上下叠装的层状结构、且上下相邻的两层二极管的接触面均由绝缘层(6)隔开,各层二极管的阴极和阳极分别排成一竖列;除位于最底层的二极管外,其上层的所有二极管和绝缘层由两竖向通孔贯穿,所述两竖向通孔分别位于对应各二极管的阴极(3)和阳极(4)的位置;所述两竖向通孔孔壁分别沉积有一绝缘层(6);所述两竖向通孔(2、3)内沉积有联通各层二极管的对应电极的金属(7)。本发明可实现二极管之间的叠装。
搜索关键词: 一种 si 衬底 gan 肖特基势垒二极管 器件 三维 联结 方法
【主权项】:
一种Si衬底GaN基肖特基势垒二极管器件的三维互联结构,包括两个以上二极管,单个二极管包括从下至上排列的Si衬底层(1)、GaN外延层(2)、电极层,其中所述电极层的阴极(3)和阳极(4)相对、且间隔开地设置在GaN外延层(2)上,其特征在于:两个以上的二极管键合成上下叠装的层状结构、且上下相邻的两层二极管的接触面均由绝缘层(6)隔开,各层二极管的阴极和阳极分别排成一竖列;除位于最底层的二极管外,其上层的所有二极管和绝缘层由两竖向通孔贯穿,所述两竖向通孔分别位于对应各二极管的阴极(3)和阳极(4)的位置;所述两竖向通孔孔壁分别沉积有一绝缘层(6);联通各层二极管的阴极(3)和阳极(4)的两个通孔沉积金属(7)。
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