[发明专利]一种快速制备等离子刻蚀机用高纯氧化钇涂层的方法

摘要

本发明公开了一种快速制备等离子刻蚀机用高纯氧化钇涂层的方法，该方法包括以下步骤：1)零件待喷涂表面预处理和对无涂层区域进行胶带防护；2)采用北京矿冶研究总院生产(或具有同等性能参数)的高纯氧化钇粉末，纯度≥99.9％、粒度分布为20-40微米；3)采用三阳极等离子喷涂系统+多轴机械手的方案进行快速喷涂。本发明采用的喷涂方法相比传统等离子喷涂法能够有效降低基体热输入(基体温度低于100℃)，提高了涂层纯度和均匀性，在1-2分钟内快速制备出厚度为120-180微米，纯度≥99％的高纯氧化钇陶瓷涂层，提高了极大规模集成电路刻蚀机零件的抗高能等离子冲蚀性能和使用寿命。

主权项

一种快速制备等离子刻蚀机用高纯氧化钇涂层的方法，其特征在于，包括以下步骤：1)喷涂前对环境卫生、喷涂主辅设备和喷涂基体进行彻底清洁，并对基体待喷涂以外部位进行有效防护；2)将纯度≥99.9％、粒度分布为20‑40μm的高纯氧化钇陶瓷粉末加入三阳极等离子喷涂系统；3)采用多轴机械手操纵三阳极等离子喷涂系统的喷枪，在基体待喷涂部位喷涂。