[发明专利]一种用于大功率激光的光隔离方法在审
申请号: | 201410650720.2 | 申请日: | 2014-11-15 |
公开(公告)号: | CN104391357A | 公开(公告)日: | 2015-03-04 |
发明(设计)人: | 彭瑜;李伟 | 申请(专利权)人: | 北京理工大学 |
主分类号: | G02B6/34 | 分类号: | G02B6/34;G02B6/32 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 100081 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及一种用于大功率激光的光隔离方法,属于强激光技术领域。本方法将激光源、准直透镜、半波片依次排列,激光源与准直透镜、半波片同光轴;根据衍射方程的一级衍射条件,确定光栅刻线间距d,制作大功率衍射型反射光栅,并排列到半波片之后,光轴穿过光栅的中心。激光源发出激光束,透过准直透镜、半波片,入射到光栅上。压电陶瓷驱动光栅,实现对光栅的角度扫描并对光栅与光轴间的夹角大小进行微调,使得入射激光完全按照一级衍射输出,实现大功率激光的光隔离。通过光栅衍射可在任何波长范围内实现对最高10000w的大功率激光的光隔离,并实现高的隔离效率,且能调节简单。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 大功率 激光 隔离 方法 | ||
【主权项】:
一种用于大功率激光的光隔离方法,其特征在于:包括如下步骤:步骤一,将激光源、准直透镜、半波片依次排列,激光源与准直透镜、半波片同光轴;步骤二,根据衍射方程的一级衍射条件:d(sinα‑sinβ)=λ (1)其中d是光栅刻线间距,λ为激光源发出的激光束波长,α为激光束到光栅的入射角度,β为激光束经光栅后的衍射角度;确定光栅刻线间距d,制作光栅;所述光栅为大功率衍射型反射光栅,其功率在10000W及以上,其背面连接压电陶瓷;步骤三,将步骤二制作的光栅排列到半波片之后,光轴穿过光栅的中心,光栅法线与光轴间的夹角大小为α;步骤四,激光源发出激光束,透过准直透镜、半波片,入射到光栅上;压电陶瓷驱动光栅,实现对光栅的角度扫描并对光栅与光轴间的夹角大小进行微调,使得入射激光完全按照一级衍射输出,实现大功率激光的光隔离。
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