[发明专利]干式指纹清洗装置

摘要

本发明是涉及一种干式指纹清洗装置，所述干式指纹清洗装置，通过利用超声波和清洗毛巾的物理清洗以及利用等离子的清洗，并使用干式清洗方法去除形成在被清洗基板表面上的指纹等污染物。本发明的干式指纹清洗装置包括：基板搬送部，使被清洗基板朝向一侧方向移动；超声波清洗部，设置于所述基板搬送部的入口上侧，用于使用超声波清洗通过所述基板搬送部搬送的被清洗基板的上表面；清洗液清洗部，与所述超声波清洗部相邻而设置，用于使用沾有清洗液的清洗毛巾揉擦并清洗所述被清洗基板的上表面；等离子清洗部，与所述清洗液清洗部相邻而设置，用于通过对所述被清洗基板的上表面喷射等离子来进行清洗。

主权项

1.一种干式指纹清洗装置，其包括：基板搬送部，使被清洗基板朝向一侧方向移动；超声波清洗部，设置于所述基板搬送部的入口上侧，用于使用超声波清洗通过所述基板搬送部搬送的被清洗基板的上表面；清洗液清洗部，与所述超声波清洗部相邻而设置，用于使用沾有清洗液的清洗毛巾揉擦并清洗所述被清洗基板的上表面；等离子清洗部，与所述清洗液清洗部相邻而设置，用于通过对所述被清洗基板的上表面喷射等离子来进行清洗；所述基板搬送部包括：一对旋转滚筒，设置于所述基板搬送部的两侧端部；输送机，均匀地形成有多个吸附孔，用于在卷绕在所述一对旋转滚筒的状态下随着履带转动，同时使所述被清洗基板水平移动；真空吸附模块，设置于所述基板搬送部中的所述清洗液清洗部的下侧，用于通过真空吸附所述输送机的下表面，吸附安装在所述输送机的上表面上的被清洗基板的下表面，所述真空吸附模块上面形成有多个真空吸附孔，所述真空吸附孔平行地配置多列，配置在相邻列上的所述真空吸附孔互相交错配置，以持续保持对被清洗基板的真空吸附力，所述清洗液清洗部包括：清洗毛巾供应辊，设置于所述真空吸附模块的上侧，用于在卷绕清洗毛巾的状态下供应清洗毛巾；清洗毛巾回收辊，与所述清洗毛巾供应辊相邻而设置，用于卷绕并回收已使用过的清洗毛巾；加压滚筒，设置于所述清洗毛巾供应辊和清洗毛巾回收辊之间，用于通过向所述被清洗基板的上表面方向对所述清洗毛巾进行加压，使所述清洗毛巾与所述被清洗基板上表面相接触；清洗液喷射部，设置于所述加压滚筒的前方，用于对所述清洗毛巾喷射清洗液；往复驱动部，用于在前后方向上往复驱动所述清洗液清洗部。