[发明专利]一种石墨壳的制备工艺在审
| 申请号： | 201410657714.X | 申请日： | 2014-11-18 |
| 公开（公告）号： | CN105671487A | 公开（公告）日： | 2016-06-15 |
| 发明（设计）人： | 李鹏 | 申请（专利权）人： | 平度市华东石墨加工厂 |
| 主分类号： | C23C14/18 | 分类号： | C23C14/18;C23C14/35;C23C16/513 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 266745 山*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明提供一种石墨壳的制备工艺，其特征是：靶磁控溅射制备的铜薄膜放入射频等离子体增强化学气相沉积设备(RF-PECVD)的反应室中，采用DPS-Ⅲ型超高真空对靶磁控溅射镀膜设置来制备厚度为80nm的铜薄膜，使用的基片为单晶Si200，靶材是直径为8cm的高纯铝靶。本发明优点：石墨和铜特性优势互补，制备了石墨壳结构(GS/CC)材料，降低成本的同时显著提升核壳结构材料的场发射性能，在信息技术、和传感器等领域具有潜在的应用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 石墨 制备 工艺 | ||
【主权项】：
一种石墨壳的制备工艺，其特征是：靶磁控溅射制备的铜薄膜放入射频等离子体增强化学气相沉积设备(RF‑PECVD)的反应室中，采用DPS‑Ⅲ型超高真空对靶磁控溅射镀膜设置来制备厚度为80nm的铜薄膜，使用的基片为单晶Si200，靶材是直径为8cm的高纯铝靶。
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