[发明专利]基于T形栅-漏复合场板的异质结器件及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201410658903.9 申请日: 2014-11-18
公开(公告)号: CN104409493A 公开(公告)日: 2015-03-11
发明(设计)人: 毛维;佘伟波;葛安奎;杨翠;马京立;郝跃 申请(专利权)人: 西安电子科技大学
主分类号: H01L29/778 分类号: H01L29/778;H01L29/40;H01L21/335;H01L21/28
代理公司: 陕西电子工业专利中心 61205 代理人: 王品华;朱红星
地址: 710071*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了一种基于T形栅-漏复合场板的异质结器件及其制作方法,主要解决现有场板技术在实现高击穿电压时工艺复杂的问题。其包括:衬底(1)、过渡层(2)、势垒层(3)、源极(4)、肖特基漏极(5)、台面(6)、栅极(7)、钝化层(8)和保护层(13)。钝化层(8)内刻有栅槽(9)和漏槽(10),钝化层(8)与保护层(13)之间淀积有T形栅场板(11)和T形漏场板(12);T形栅场板(11)与栅极(7)电气连接,且下端完全填充在栅槽(9)内;T形漏场板(12)与肖特基漏极(5)电气连接,且下端完全填充在漏槽(10)内。本发明具有制作工艺简单、正向特性与反向特性好及成品率高的优点,可作为开关器件。
搜索关键词: 基于 形栅 复合 异质结 器件 及其 制作方法
【主权项】:
一种基于T形栅‑漏复合场板的异质结器件,自下而上包括:衬底(1)、过渡层(2)、势垒层(3)、钝化层(8)和保护层(13),势垒层的上面淀积有源极(4)、肖特基漏极(5)及栅极(7),势垒层的侧面刻有台面(6),且台面深度大于势垒层厚度,其特征在于:钝化层(8)内刻有栅槽(9)和漏槽(10);钝化层(8)与保护层(13)之间淀积有T形栅场板(11)和T形漏场板(12);所述T形栅场板(11)与栅极(7)电气连接,且下端完全填充在栅槽(9)内;所述T形漏场板(12)与肖特基漏极(5)电气连接,且下端完全填充在漏槽(10)内。
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