[发明专利]基于T形栅-漏复合场板的异质结器件及其制作方法有效
申请号: | 201410658903.9 | 申请日: | 2014-11-18 |
公开(公告)号: | CN104409493A | 公开(公告)日: | 2015-03-11 |
发明(设计)人: | 毛维;佘伟波;葛安奎;杨翠;马京立;郝跃 | 申请(专利权)人: | 西安电子科技大学 |
主分类号: | H01L29/778 | 分类号: | H01L29/778;H01L29/40;H01L21/335;H01L21/28 |
代理公司: | 陕西电子工业专利中心 61205 | 代理人: | 王品华;朱红星 |
地址: | 710071*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明公开了一种基于T形栅-漏复合场板的异质结器件及其制作方法,主要解决现有场板技术在实现高击穿电压时工艺复杂的问题。其包括:衬底(1)、过渡层(2)、势垒层(3)、源极(4)、肖特基漏极(5)、台面(6)、栅极(7)、钝化层(8)和保护层(13)。钝化层(8)内刻有栅槽(9)和漏槽(10),钝化层(8)与保护层(13)之间淀积有T形栅场板(11)和T形漏场板(12);T形栅场板(11)与栅极(7)电气连接,且下端完全填充在栅槽(9)内;T形漏场板(12)与肖特基漏极(5)电气连接,且下端完全填充在漏槽(10)内。本发明具有制作工艺简单、正向特性与反向特性好及成品率高的优点,可作为开关器件。 | ||
搜索关键词: | 基于 形栅 复合 异质结 器件 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
一种基于T形栅‑漏复合场板的异质结器件,自下而上包括:衬底(1)、过渡层(2)、势垒层(3)、钝化层(8)和保护层(13),势垒层的上面淀积有源极(4)、肖特基漏极(5)及栅极(7),势垒层的侧面刻有台面(6),且台面深度大于势垒层厚度,其特征在于:钝化层(8)内刻有栅槽(9)和漏槽(10);钝化层(8)与保护层(13)之间淀积有T形栅场板(11)和T形漏场板(12);所述T形栅场板(11)与栅极(7)电气连接,且下端完全填充在栅槽(9)内;所述T形漏场板(12)与肖特基漏极(5)电气连接,且下端完全填充在漏槽(10)内。
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