[发明专利]半导体装置在审
申请号: | 201410669328.2 | 申请日: | 2010-10-12 |
公开(公告)号: | CN104485341A | 公开(公告)日: | 2015-04-01 |
发明(设计)人: | 小山润;山崎舜平 | 申请(专利权)人: | 株式会社半导体能源研究所 |
主分类号: | H01L27/146 | 分类号: | H01L27/146;H01L27/12;H01L29/786;H04N5/3745 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 侯颖媖 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及半导体装置,提供了保持电势达较长时间且含有具稳定电特性的薄膜晶体管的固态图像传感器。当含有氧化物半导体层的薄膜晶体管的截止态电流被设置为1×10-13A或更少且该薄膜晶体管被用作固态图像传感器的重置晶体管和转移晶体管时,信号电荷存储部分的电势被保持不变,所以可改进动态范围。当可被用于互补金属氧化物半导体的硅半导体被用于外围电路时,可制造具有低功耗的高速半导体器件。 | ||
搜索关键词: | 半导体 装置 | ||
【主权项】:
一种半导体装置,包括:在衬底上的包括栅电极的第一晶体管,其中所述第一晶体管的沟道形成区包含晶体硅;以及所述衬底上的第二晶体管,该第二晶体管包括:氧化物半导体层;所述氧化物半导体层上的源电极和漏电极;所述氧化物半导体层上的栅绝缘层;和所述栅绝缘层上的栅电极,其中,所述第一晶体管的所述栅电极电连接至所述第二晶体管的所述源电极和所述漏电极中的一个,且其中,所述氧化物半导体层包括与所述第二晶体管的所述栅电极以及所述第二晶体管的所述源电极和所述漏电极中的一个都重叠的区域。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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