[发明专利]化学强化玻璃基板的加工方法有效
| 申请号： | 201410670258.2 | 申请日： | 2014-11-20 |
| 公开（公告）号： | CN104649580B | 公开（公告）日： | 2019-01-04 |
| 发明（设计）人： | 植松照博 | 申请（专利权）人： | 东京应化工业株式会社 |
| 主分类号： | C03C15/00 | 分类号： | C03C15/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 雒运朴 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供化学强化玻璃基板的加工方法以及供于该加工方法的化学强化玻璃基板，该加工方法是在化学强化玻璃基板的表面使用感光性树脂组合物形成蚀刻掩模后对化学强化玻璃基板的表面实施蚀刻加工的方法，该加工方法能够从化学强化玻璃基板的表面快速地除去蚀刻掩模而几乎不产生蚀刻掩模的残渣。在对具备使用感光性树脂组合物所形成的蚀刻掩模的化学强化玻璃基板进行蚀刻加工时，使用实施蚀刻的面的、从表面至深度10μm的表层的钠和钾的元素成分比率总和为13质量％以下的化学强化玻璃基板。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 强化 玻璃 加工 方法 | ||
【主权项】：
1.一种化学强化玻璃基板的加工方法，所述化学强化玻璃基板的维氏硬度为500kgf/mm2以上，该加工方法包括：涂布膜形成工序，在所述化学强化玻璃基板形成由感光性树脂组合物形成的涂布膜；曝光工序，位置选择性地对所述涂布膜进行曝光；蚀刻掩模形成工序，对被曝光后的所述涂布膜进行显影，得到图案化为所需形状的蚀刻掩模；蚀刻工序，对具备所述蚀刻掩模的所述化学强化玻璃基板进行蚀刻；以及剥离工序，将所述蚀刻掩模从所述化学强化玻璃基板的表面剥离，其中，所述化学强化玻璃基板的被实施蚀刻的面的、从表面至深度10μm的表层的钠和钾的元素成分比率总和为13质量％以下，从表面至深度10μm的表层的钠的元素成分比率为3质量％以下。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东京应化工业株式会社，未经东京应化工业株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201410670258.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
