[发明专利]基板处理装置在审
| 申请号： | 201410679982.1 | 申请日： | 2014-11-24 |
| 公开（公告）号： | CN104668217A | 公开（公告）日： | 2015-06-03 |
| 发明（设计）人： | 手岛理惠;矶明典;滨田崇广;坂下健司;西部幸伸;高原龙平 | 申请（专利权）人： | 芝浦机械电子株式会社 |
| 主分类号： | B08B1/00 | 分类号： | B08B1/00;B08B11/00;H01L21/67 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 徐殿军 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供一种能够实现生产速度的提高以及成本的削减、并且可靠地除去微粒的基板处理装置。实施方式的基板处理装置，具备：与基板(W)上的防静电膜(Wa)的表面接触而相对移动、对该防静电膜(Wa)的表面进行擦拭的擦拭部件(11)。该擦拭部件(11)具备：作为基体的弹性体(11a)；和在该弹性体(11a)的表面上设置、与相对移动的防静电膜(Wa)的表面接触的布(11b)。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 装置 | ||
【主权项】：
一种基板处理装置，具备：与基板上的防静电膜的表面接触而相对移动、对该防静电膜的表面进行擦拭的擦拭部件，上述擦拭部件，具备：作为基体的弹性体；以及布，在上述弹性体的表面设置，与相对移动的上述防静电膜的表面接触。
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