[发明专利]含倍半萜内酯的成膜树脂及其正性浸没式曝光193nm光刻胶在审
| 申请号： | 201410684078.X | 申请日： | 2014-11-25 |
| 公开（公告）号： | CN104403048A | 公开（公告）日： | 2015-03-11 |
| 发明（设计）人： | 冉瑞成;沈吉;孙友松;潘新刚 | 申请（专利权）人： | 昆山西迪光电材料有限公司 |
| 主分类号： | C08F220/40 | 分类号： | C08F220/40;C08F220/18;C08F220/22;C08F220/28;G03F7/039 |
| 代理公司： | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人： | 马明渡;王健 |
| 地址： | 215311 江苏省苏州市昆山市*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开一种含倍半萜内酯的成膜树脂及其正性浸没式曝光193nm光刻胶；所述成膜树脂由含倍半萜内酯的（甲基）丙烯酸酯单体和相关共聚单体在溶剂中进行自由基共聚反应制备而成，其特征在于：所述成膜树脂的分子量为4,000～5,000,000，分子量分布为1.4～2.4；所述共聚单体主要为下列质量百分含量的化合物：含天然产物倍半萜内酯的组成单元10%～60%；含酸敏基团单体5%～40%；具有疏水性能基团的单体2%~40%；其它性能调节组分单体1%~20%；所述含倍半萜内酯单元是指符合化学通式（Ⅱ）的至少一种倍半萜内酯醇的（甲基）丙烯酸酯类化合物。本发明公开的浸没式曝光193nm正性光刻胶不仅具有良好的分辨率，还可以增加光刻胶与硅片之间的粘附性能，也提高了光刻胶的耐热性能和抗刻蚀性能。 | ||
| 搜索关键词： | 倍半萜 内酯 树脂 及其 浸没 曝光 193 nm 光刻 | ||
【主权项】：
1.一种含倍半萜内酯的成膜树脂，其特征在于：所述成膜树脂由共聚单体在自由基引发剂存在的条件下，在溶剂中进行共聚反应制备而成；其特征在于：所述成膜树脂的分子量为4,000～5,000,000，分子量分布为1.4～2.4；所述共聚单体主要为下列质量百分含量的化合物：含天然产物倍半萜的组成单元 10%～60%；含酸敏基团单体 5%～40%；具有疏水性能基团的单体 2% ~ 40%；其它性能调节组分单体 1% ~ 20%；所述含天然产物倍半萜的组成单元 是指符合化学通式(II）的至少一种倍半萜内酯醇的（甲基）丙烯酸酯类化合物：3 为可离去基团，R3 结构式如以下（IV）中所示：3 或者-CH2 CH3 ；所述具有疏水性能基团的单体是符合化学通式（V）式中的至少一种化合物：
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