[发明专利]一种利用贴图控制高光反射清晰度的方法及装置有效

专利信息
申请号: 201410687829.3 申请日: 2014-11-25
公开(公告)号: CN104392481B 公开(公告)日: 2017-12-05
发明(设计)人: 张翼 申请(专利权)人: 无锡梵天信息技术股份有限公司
主分类号: G06T15/50 分类号: G06T15/50
代理公司: 北京品源专利代理有限公司11332 代理人: 邓猛烈,胡彬
地址: 214000 江苏省无锡市新*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明提供一种利用贴图控制高光反射清晰度的方法及装置,该方法包括获取模型上一像素点的所有反射光线向量和立方体等级贴图面的交点的像素颜色的平均值作为模型该像素点的平均像素颜色值;根据所述模型上该像素点的平均像素颜色值和菲涅尔系数得到所述模型上该像素点的高光值。本发明采用贴图将周围环境渲染在模型上,通过调节光泽贴图的光泽度控制模型反射周围环境的清晰度,使得模型的视觉效果更加逼真。
搜索关键词: 一种 利用 贴图 控制 反射 清晰度 方法 装置
【主权项】:
一种利用贴图控制高光反射清晰度的方法,其特征在于,包括:获取模型上一像素点的所有反射光线向量和立方体等级贴图面的交点的像素颜色的平均值作为模型该像素点的平均像素颜色值;根据所述模型上该像素点的平均像素颜色值和菲涅尔系数得到所述模型上该像素点的高光值;其中,所述获取模型上一像素点的所有的反射光线向量和立方体等级贴图面的交点的像素颜色的平均值作为模型该像素点的平均像素颜色值包括:根据模型上该像素点的入射光线向量和该点的法线得到模型上该像素点的反射光线向量,获取所述反射光线向量与立方体贴图的面的交点,通过UV坐标采样立方体环境贴图纹理,获得所述反射光线向量与立方体贴图的面的交点的像素颜色值;根据光泽贴图的光泽度得到所需要采样的立方体贴图层次等级;根据所述反射光线向量与立方体贴图的面的交点的像素颜色值、所述立方体贴图的层次等级得到模型上该像素点的平均像素颜色值;其中,所述立方体贴图是通过在一个立方体上的六个面贴上前后左右上下六个贴图来模拟环境。
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