[发明专利]热壁式金属有机物化学气相沉积喷淋装置及工艺方法在审
申请号: | 201410689017.2 | 申请日: | 2014-11-26 |
公开(公告)号: | CN105695952A | 公开(公告)日: | 2016-06-22 |
发明(设计)人: | 甘志银;刘胜 | 申请(专利权)人: | 广东昭信半导体装备制造有限公司 |
主分类号: | C23C16/18 | 分类号: | C23C16/18;C23C16/44 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 528251 广东省佛*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种金属有机物化学气相沉积喷淋装置及工艺方法,主要包括喷淋、气体进口、气体输入缓冲腔、通气孔、喷淋盘、高温冷却腔和低温冷却腔等。本发明通过将高沸点喷淋冷却液加热至较高温度对喷淋进行恒温控制,提高喷淋的稳定温度,形成喷淋的热壁,以减少喷淋表面反应物气相反应的颗粒凝结沉积,避免每次生长完成后需要清洁喷淋面沉积颗粒,提高生长质量和生产效率,另外,提高喷淋的温度,缩小喷淋面和载片盘间的温度差及温度梯度,可减少自然对流,有利于层流和化学反应,并有利于提高反应效率和反应源利用效率。在喷淋顶端设置低温冷却腔,减少热壁面喷淋散失到外部空间的热量,避免热壁喷淋的高温提高环境的温度和对人员造成伤害。 | ||
搜索关键词: | 热壁式 金属 有机物 化学 沉积 喷淋 装置 工艺 方法 | ||
【主权项】:
一种金属有机物化学气相沉积喷淋装置,主要包括:喷淋、气体进口、气体输入缓冲腔、通气孔、喷淋盘,反应气体及载气通过气体进口进入气体输入缓冲腔,通过通气孔,进入反应腔进行一系列物理化学反应在载片盘上的衬底上沉积所需薄膜,其特征在于在所述喷淋盘和气体输入缓冲腔之间设置高温冷却腔,温度范围在100至400摄氏度,如200摄氏度或250摄氏度的高温冷却液由高温冷却液进口进入高温冷却腔对喷淋盘进行一定降温,但是控制在一个比较高的温度,使得喷淋的壁面保持比较高的恒温;在喷淋顶部设置低温冷却腔,温度范围在0至100摄氏度,如18摄氏度或30摄氏度的低温冷却液由低温冷却液进口进入低温冷却腔对喷淋进行降温隔离保护。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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C23C16-02 .待镀材料的预处理
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的