[发明专利]一种快恢复二极管及其制作方法在审

专利信息
申请号: 201410693539.X 申请日: 2014-11-26
公开(公告)号: CN105702746A 公开(公告)日: 2016-06-22
发明(设计)人: 吴迪;刘钺杨;何延强;金锐;温家良 申请(专利权)人: 国家电网公司;国网智能电网研究院;国网上海市电力公司
主分类号: H01L29/861 分类号: H01L29/861;H01L29/06;H01L21/329;H01L21/266
代理公司: 北京安博达知识产权代理有限公司 11271 代理人: 徐国文
地址: 100031 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及一种快恢复二极管及其制作方法,二极管包括衬底和P+区,所述P+区在衬底上形成,共同构成PN结,其中衬底为二极管的阴极,P+区为二极管阳极;在阳极P+区的表面注入氢或氦,形成局域寿命控制层;本发明的二极管恢复特性既快且软;由于局域寿命控制层的存在,器件不需要过多的全局复合中心,可以降低器件漏电,提高器件雪崩耐量;配合电子辐照与铂掺杂,可以实现正向压降温度系数微正的器件,利于并联;可以对器件阳极及阴极的结构及掺杂进行调整,利于提高器件的正向浪涌及动态雪崩能力。
搜索关键词: 一种 恢复 二极管 及其 制作方法
【主权项】:
一种快恢复二极管,所述二极管包括衬底和其上形成的P+区共同构成的PN结,其中衬底为二极管的阴极,P+区为二极管阳极;其特征在于,在阳极P+区的表面注入氢或氦,形成局域寿命控制层;所述衬底为均匀掺杂的N型硅衬底,所述N型硅衬底包括依次分布的衬底N‑层以及衬底N+层;在所述衬底N‑层上生长有氧化层。
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