[发明专利]利用热显影增强电子束光刻胶对比度的制备高密度平整图形的方法在审
| 申请号： | 201410702650.0 | 申请日： | 2014-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN104483812A | 公开（公告）日： | 2015-04-01 |
| 发明（设计）人： | 陈宜方;陆冰睿 | 申请（专利权）人： | 复旦大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海正旦专利代理有限公司 31200 | 代理人： | 陆飞;盛志范 |
| 地址： | 200433 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明属于半导体及纳米加工技术领域，具体为一种利用热显影增强电子束光刻胶对比度的制备厚胶高密度光滑图形的方法。本发明包括：对衬底表面进行清洗和烘干处理；在衬底上旋涂光刻胶；对所述光刻胶进行前烘和电子束曝光；对所述曝光后的光刻胶进行显影处理，显影过程中实施加温和超声振荡；对显影后的光刻胶进行定影和干燥处理。本发明方法对于电子束光刻过程中的邻近效应有明显的抑制作用，有利于使用低灵敏度光刻胶制备厚胶中高密度光滑图形，能够用于高精度纳米器件结构的制备。 | ||
| 搜索关键词： | 利用 显影 增强 电子束光刻 对比度 制备 高密度 平整 图形 方法 | ||
【主权项】：
一种利用热显影增强电子束光刻胶对比度的制备厚胶高密度平整图形的方法，其特征在于具体步骤为：（1）提供衬底材料，对衬底进行表面清洗和烘干处理；（2）在衬底表面旋涂光刻胶；（3）对所述光刻胶进行前烘和电子束曝光；（4）对曝光后的光刻胶进行后烘和显影处理，显影过程中实施加温或超声振荡；（5）对显影后的光刻胶进行定影和干燥处理。
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