[发明专利]微透镜阵列的成像方法与成像装置有效
| 申请号： | 201410710155.4 | 申请日： | 2014-11-28 |
| 公开（公告）号： | CN105704402B | 公开（公告）日： | 2019-01-11 |
| 发明（设计）人： | 崔春晖;麦华福;叶茂 | 申请（专利权）人： | 深圳超多维科技有限公司 |
| 主分类号： | H04N5/357 | 分类号： | H04N5/357;H04N9/04 |
| 代理公司： | 深圳市凯达知识产权事务所 44256 | 代理人： | 任转英 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种微透镜阵列的成像方法，其用于对微透镜阵列所成的像进行处理，所述微透镜阵列的成像方法包括：通过微透镜阵列对光源成像，以获取底图；通过微透镜阵列在所述光源条件下对实际场景成像，以获取像图；对所述底图与所述像图进行亮度配准；为所述像图中的第一象素建立背景概率模型；以及根据所述第一象素的背景概率模型，对所述像图中的第一象素进行亮度均一化处理。本发明进一步包括一种微透镜阵列的成像装置。所述微透镜阵列的成像方法与成像装置可以有效地消除微透镜阵列成像的亮度分布不均的现象，并且进一步地将微透镜阵列成像的亮度归一化到同一水平。 | ||
| 搜索关键词： | 透镜 阵列 成像 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种微透镜阵列的成像方法，其特征在于，包括：通过微透镜阵列对光源成像，以获取底图；通过微透镜阵列在所述光源条件下对实际场景成像，以获取像图；对所述底图与所述像图进行亮度配准；为所述像图中的第一象素建立背景概率模型，根据所述底图中与所述第一象素坐标相同的第二象素的亮度差异，判断所述像图中的第一象素作为背景的概率；以及根据所述第一象素的背景概率模型，对所述像图中的第一象素进行亮度均一化处理。
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