[发明专利]一种UV处理机台工艺性能的日常检查方法有效

专利信息
申请号: 201410714988.8 申请日: 2014-11-28
公开(公告)号: CN104485299B 公开(公告)日: 2018-03-27
发明(设计)人: 王一;杨渝书;绍克坚;郭敏 申请(专利权)人: 上海华力微电子有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;H01L21/66
代理公司: 上海申新律师事务所31272 代理人: 吴俊
地址: 201203 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种UV处理机台工艺状态的日常检查方法,包括以下步骤步骤1、将一硅光片送入一UV处理机台中,并将所述UV处理机台的工艺温度稳定在一基准值;步骤2、采用一UV光对所述硅光片进行照射,以得到UV处理机台在一段时间内的温度变化率;步骤3、对所述温度变化率进行监控。使用所述检查方法的有益效果为1)及时监控工艺条件执行完毕就可得到检查结果;2)准确通过传感器直接收集温度数据,可排除光阻差别等中间环节带来的误差;3)低成本降低了硅片、光阻、量测等的物料及机时成本;4)低风险降低了光阻片在使用固胶工艺监控及再生过程中的颗粒、胶残留对硅片及机台的污染等风险。
搜索关键词: 一种 uv 处理 机台 工艺 性能 日常 检查 方法
【主权项】:
一种UV处理机台工艺状态的日常检查方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤1、将一硅光片送入一UV处理机台中,并将所述UV处理机台的工艺温度稳定在一基准值;步骤2、采用一UV光对所述硅光片进行照射,以得到UV处理机台在一段时间内的温度变化率;步骤3、对所述温度变化率进行监控;在所述步骤3中,采用以下方式对所述温度变化率进行监控:将所述温度变化率与一温度变化率标准进行比较,若所述温度变化率符合所述温度变化率标准,则所述机台的工艺性能符合实际工艺要求,若所述温度变化率不符合所述温度变化率标准,则所述机台的工艺性能不符合实际工艺要求;在所述步骤2中,所述一段时间为小于5分钟;所述UV光的强度为小于1000mW/cm2。
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