[发明专利]一种超低损耗反射镜镀膜基板节瘤缺陷预处理方法无效
| 申请号： | 201410717405.7 | 申请日： | 2014-12-02 |
| 公开（公告）号： | CN104498887A | 公开（公告）日： | 2015-04-08 |
| 发明（设计）人： | 刘华松;姜承慧;宗杰;刘丹丹;季一勤;王利栓;姜玉刚;赵馨 | 申请（专利权）人： | 中国航天科工集团第三研究院第八三五八研究所 |
| 主分类号： | C23C14/46 | 分类号： | C23C14/46;C23C14/02 |
| 代理公司： | 中国兵器工业集团公司专利中心11011 | 代理人： | 刘东升 |
| 地址： | 300308天津市东*** | 国省代码： | 天津;12 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及激光陀螺技术领域，具体涉及一种超低损耗反射镜镀膜基板节瘤缺陷预处理方法。其通过酸、碱溶液化学清洗、超声波物理清洗与高能宽束离子束清洗相结合，能够有效去除0.5μm以上的节瘤缺陷种子源。该方法可以在有效去除表面有机污染物和污染颗粒的同时，实现表面无损伤的基板预处理，即在不引起表面缺陷的同时，有效去除表面污染颗粒，实现在超光滑基板表面制备的超低损耗激光薄膜散射最大值小于5ppm，总损耗小于10ppm。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 损耗 反射 镀膜 基板节瘤 缺陷 预处理 方法 | ||
【主权项】：
一种超低损耗反射镜镀膜基板节瘤缺陷预处理方法，其特征在于，其包括如下步骤：步骤S1：配置稀盐酸溶液，将镀膜基片放置于稀盐酸溶液中加热至沸腾，清洗一定时间后，用不低于90℃的去离子水超声清洗镀膜基板；步骤S2：配置过氧化铵溶液，将镀膜基片放置于过氧化铵溶液中加热至沸腾，清洗一定时间后，用不低于90℃的去离子水超声清洗镀膜基板；步骤S3：配置过氧化氢溶液，将镀膜基片放置于过氧化氢溶液中加热至沸腾，清洗一定时间后，用不低于90℃的去离子水超声清洗镀膜基板；步骤S4：用不低于90℃的去离子水刷洗基片表面，高速离心干燥基片；步骤S5：将镀膜基板成盘放置在离子束溅射镀膜机内，用离子束对基板表面进行处理；步骤S6：用不低于90℃的去离子水刷洗基片表面，高速离心干燥基片，完成整个镀膜基板的清洗。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国航天科工集团第三研究院第八三五八研究所;，未经中国航天科工集团第三研究院第八三五八研究所;许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201410717405.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
