[发明专利]基于纹理特征聚类的磁瓦表面缺陷检测方法有效
申请号: | 201410717407.6 | 申请日: | 2014-12-02 |
公开(公告)号: | CN105719266B | 公开(公告)日: | 2018-08-28 |
发明(设计)人: | 孙海涛;李丹;赵卫东 | 申请(专利权)人: | 安徽达特智能科技有限公司 |
主分类号: | G06T7/00 | 分类号: | G06T7/00;G06T7/40;G06K9/62 |
代理公司: | 南京知识律师事务所 32207 | 代理人: | 蒋海军 |
地址: | 243000 安徽省马鞍*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明提供一种基于纹理特征聚类的磁瓦表面缺陷检测识别方法,具体算法包括:第一步,通过Gabor核函数与磁瓦表面灰度值卷积计算得到Gabor能量谱,选用四个方向的能量谱叠加得到总能量谱;第二步,为优化算法,利用自定义乘积系数谱与总能量谱相乘得到修正的Gabor能量谱;第三步采用模糊C均值聚类算法对修正的Gabor能量谱分割出3类区域;第四步,通过对3类区域采用过质点水平线上的灰度变化特性提取缺陷,判定磁瓦合格与不合格。本发明利用缺陷纹理与正常纹理特征的差别,通过聚类算法分割,有效地克服了磁瓦本身光照不均匀、噪声干扰等问题,可以快速、有效地提取各类磁瓦缺陷,具有很强得适应性。 | ||
搜索关键词: | 基于 纹理 特征 表面 缺陷 检测 方法 | ||
【主权项】:
1.一种基于纹理特征聚类的磁瓦表面缺陷提取识别方法,实现了磁瓦表面缺陷的自动检测,方法步骤包括以下步骤:第一步:利用Gabor核函数构造能量谱表征磁瓦表面的纹理特征,采用Gabor核函数对原始图像卷积计算,得到8方向的Gabor能量谱,并用0度、45度、90度、135度方向的能量谱叠加表征磁瓦表面的纹理特征;步骤一中,包括以下步骤:(1)Gabor核函数:采用通用的复2‑D Gabor核函数,复2‑D Gabor核函数ζu,v(z)是由高斯函数调制的复正弦函数,其数学表达式为:
式中,z=(x,y)为图像像素点,其中,x,y分别为图像中的横坐标和纵坐标;u和v分别表示Gabor小波的方向和尺度;||·||表示模运算;i为复数算子;σ为高斯函数的半径,规定了二维Gabor小波的尺寸大小;ku,v为核函数的中心频率,θ体现了滤波器的方向选择性利用上述数学公式并确定参数:μ=1,v=2,θ=πμ/8,σ=2π,
(2)构造Gabor能量谱通过Gabor核函数与磁瓦表面图像卷积计算得到Gabor能量谱,以描述纹理特征,设g(x,y)为图像的灰度值,其中,x,y分别为图像中的横坐标和纵坐标,则卷积值Q(x,y)为:Q(x,y)=ζ(x,y)*g(x,y)相应的幅度谱M(x,y)和相位谱θ(x,y)为:![]()
其中Re()为取复数实部函数,Im()为复数的虚部函数;幅度谱M(x,y)足以表示Gabor能量谱,所以采用能量谱数学值上用幅度谱代替;通过分析,缺陷存在于0‑180度之间范围,故选用0度、45度、90度和135度四个方向的能量谱;(3)构造Gabor能量总谱四方向的Gabor能量谱GA,GB,GC,GD分别表示了四个方向的纹理特征,如果直接对四方向能量谱分别聚类,则存在重复计算,缺陷特征不明显的缺点,所以将四方向能量谱叠加,得到能量总谱MS,既增强了缺陷的纹理特征,同时减少了计算量;MS=GA+GB+GC+GD;第二步:构造自定义系数谱修正Gabor能量谱,通过自定义系数谱与Gabor能量谱相乘,得到修正的Gabor能量谱,并确定聚类簇数为3,以优化聚类效果;步骤二中,构造一个自定义乘积系数谱ρ(x,y),通过自定义系数谱ρ(x,y)与Gabor能量谱相乘得到修正后的Gabor能量谱MDC;在MS中,主要存在三个区域,分别是正常纹理区域、光照不均匀区域和缺陷区域,且光照不均匀区域和缺陷区域在Gabor能量谱中幅值大小相近,影响了聚类分割,通过局部灰度特征构造自定义能量系数谱修正Gabor能量谱,以优化聚类算法;假设磁瓦表面某点的灰度值为g(x,y),计算以该点为中心的边长为n的正方向框内的平均灰度值m(x,y)和标准差d(x,y),通过如下公式得到自定义系数谱ρ(x,y):ρ(x,y)=g(x,y)‑(m(x,y)+υ·d(x,y))其中υ为标准差影响因子,当υ和n偏大时整个图像都有较高值的系数谱,υ的取值范围为‑1.5~1.5,n的取值范围为5~15;将自定义乘积系数谱ρ(x,y)与Gabor能量总谱按点相乘,得到修正后的Gabor能量谱MDC:MDC=ρ(x,y)*MS;第三步:利用模糊C均值(FCM)聚类算法对修正的Gabor能量谱分割图像,由于确定的聚类簇数为3,则纹理特征分成3类区域;第四步,识别3类区域中的缺陷区域,完成磁瓦缺陷分割和提取,根据过质点的水平线和垂直线上的灰度变化特性,判断缺陷处于的区域。
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