[发明专利]一种低损耗超高透过率激光减反射薄膜的制备方法

摘要

本发明涉及激光光学薄膜技术领域，具体涉及一种低损耗超高透过率激光减反射薄膜的制备方法。本发明通过基片化学清洗、离子束溅射薄膜制备、制备误差的修正来实现低损耗超高透过率激光减反射薄膜的制备，为四频差动激光陀螺提供关键的谐振腔内元件。通过实施上述技术方案，通过基片化学清洗、离子束溅射薄膜制备、制备误差的修正实现了低损耗超高透过率激光减反射薄膜的制备，能够满足四频差动激光陀螺谐振腔低损耗控制的要求。

主权项

一种低损耗超高透过率激光减反射薄膜的制备方法，其特征在于，其包括如下步骤：步骤S1：对镀膜基片的化学清洗采取碱溶液清洗、酸溶液清洗、超声波清洗和离心甩干四个子步骤；所述碱性溶液为氨水、双氧水和水配比液；所述酸性溶液为盐酸和水配比液；步骤S2：将减反膜的结构定义为：基底/(αHβL)/空气，包括基底、高折射率膜层H层，低折射率膜层L层，两层的光学厚度分别为αλ₀/4和βλ₀/4，λ₀为中心波长；步骤S3：利用时间控厚离子束溅射沉积技术，分别在同种材质的实验片上制备上述的膜系结构，H层的沉积时间为t_H，L层的沉积时间为t_L；步骤S4：利用椭圆偏振仪测量薄膜的反射椭圆偏振参数Ψ(λ)和Δ(λ)，设定测量波长范围为λ_min‑λ_max，测量步长为Δλ，λmin和λmax的取值包含中心波长λ₀在内，测试入射角度为45°。对H层和L层的光学厚度进行反演计算，结果分别为α’和β’；步骤S5：根据步骤S4的计算结果对步骤S3的t_H及t_L进行修正，修正后的减反膜的最终沉积时间参数T_H和T_L分别为T_H＝α/α’×t_H和T_L＝β/β’×t_L；步骤S6：薄膜制备完成后采取热处理的方法，在大气氛围中升温到100～200℃，保持8～16h后自然降温到室温。