[发明专利]具有可见光响应的自清洁Bi2Ti2O7/TiO2纳米线阵列复合体薄膜的制备方法有效
申请号: | 201410723726.8 | 申请日: | 2014-12-02 |
公开(公告)号: | CN104445995A | 公开(公告)日: | 2015-03-25 |
发明(设计)人: | 付宏刚;刘航;田国辉;陈亚杰 | 申请(专利权)人: | 黑龙江大学 |
主分类号: | C03C17/34 | 分类号: | C03C17/34;B01J23/18 |
代理公司: | 哈尔滨市松花江专利商标事务所 23109 | 代理人: | 牟永林 |
地址: | 150080 黑龙*** | 国省代码: | 黑龙江;23 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 具有可见光响应的自清洁Bi2Ti2O7/TiO2纳米线阵列复合体薄膜的制备方法,涉及纳米线阵列复合体薄膜的制备方法。本发明的目的是要解决现代高楼大厦的玻璃清洁需要依靠人工完成,既耗费资源,又存在较高的危险性,不能依靠阳光和雨水这两种自然力量来维持表面的清洁的问题。制备方法:一、制备负载有二氧化钛纳米线阵列前驱体薄膜的玻璃基底;二、制备Bi2Ti2O7/TiO2纳米线阵列复合体薄膜,得到具有可见光响应的自清洁Bi2Ti2O7/TiO2纳米线阵列复合体薄膜。本发明在简单的水热条件下完成,合成方法简单,成本低廉。本发明可获得具有可见光响应的自清洁Bi2Ti2O7/TiO2纳米线阵列复合体薄膜。 | ||
搜索关键词: | 具有 可见光 响应 清洁 bi sub ti tio 纳米 阵列 复合体 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】:
具有可见光响应的自清洁Bi2Ti2O7/TiO2纳米线阵列复合体薄膜的制备方法,其特征在于具有可见光响应的自清洁Bi2Ti2O7/TiO2纳米线阵列复合体薄膜的制备方法具体是按以下步骤完成的:一、制备负载有二氧化钛纳米线阵列前驱体薄膜的玻璃基底:将钛源溶解到无水乙醇中,再加入多元醇,再在搅拌速度为100r/min~300r/min下搅拌15min~30min,得到混合溶液A;将混合溶液A移入到聚四氟乙烯反应釜中,再将洁净的玻璃片基底以与聚四氟乙烯反应釜的轴线夹角为60°的角度放入聚四氟乙烯反应釜中,再将密封的聚四氟乙烯反应釜放入到温度为180℃~200℃的干燥箱中加热10h~24h,再将密封的聚四氟乙烯反应釜自然冷却至室温,将玻璃片基底取出,使用蒸馏水进行洗涤5次~8次,再在温度为60℃~80℃下干燥12h~24h,得到负载有二氧化钛纳米线阵列前驱体薄膜的玻璃基底;步骤一中所述的钛源与多元醇的体积比为1:(5~10);步骤一中所述的无水乙醇与多元醇的体积比为(5~8):1;二、制备Bi2Ti2O7/TiO2纳米线阵列复合体薄膜:将铋盐加入到无水乙醇和丙三醇的混合溶液中,再在搅拌速度为100r/min~300r/min下搅拌20min~40min,得到混合溶液B;再将混合溶液B加入到聚四氟乙烯反应釜中,再将步骤一中得到的负载有二氧化钛纳米线阵列前驱体薄膜的玻璃基底以与聚四氟乙烯反应釜的轴线夹角为60°的角度放入聚四氟乙烯反应釜中;再将密封的聚四氟乙烯反应釜在温度为180℃~200℃下反应12h~24h,再将密封的聚四氟乙烯反应釜自然冷却至室温,将负载有二氧化钛纳米线阵列前驱体薄膜的玻璃基底取出,使用蒸馏水进行洗涤5次~8次,再在温度为60℃~80℃下干燥12h~24h,再放入马弗炉中,再在温度为500℃~600℃下焙烧2h~4h,得到负载在玻璃基底上的具有可见光响应的自清洁Bi2Ti2O7/TiO2纳米线阵列复合体薄膜;步骤二中所述的无水乙醇和丙三醇的混合溶液中无水乙醇与丙三醇的体积比为(5~8):1;步骤二中所述的铋盐与无水乙醇和丙三醇的混合溶液中丙三醇的摩尔比为1:(315~335);步骤二中所述的铋盐与步骤一中所述的钛源的摩尔比为1:(8~12)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于黑龙江大学,未经黑龙江大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410723726.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种中空玻璃
- 下一篇:一种具有长效超亲水性的多层氧化钛增透膜及其制备方法