[发明专利]新型苯并噻喃酮类光敏保护基对磷酸基的保护和光解离脱保护的应用在审
| 申请号： | 201410724441.6 | 申请日： | 2014-12-03 |
| 公开（公告）号： | CN104387419A | 公开（公告）日： | 2015-03-04 |
| 发明（设计）人： | 张有来;张欢;刘珊珊;马驰;程艳丽;洪丽虹;李保芬;杜旭泽 | 申请（专利权）人： | 天津理工大学 |
| 主分类号： | C07F9/6553 | 分类号： | C07F9/6553;C07F9/6574;C07F9/6558;C07D495/04 |
| 代理公司： | 天津盛理知识产权代理有限公司 12209 | 代理人： | 赵瑶瑶 |
| 地址： | 300384 天津市西青*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种新型苯并噻喃酮类光敏保护基对磷酸基的保护和光解离脱保护的应用，提供一种化合物能够对磷酸官能团化合物的保护，新型苯并噻喃酮类光敏保护基光解离反应高效迅速，且在日常光照条件下具有良好的相对稳定性，且具有独特的既对光响应又能释放潜在荧光基团的光敏结构。便于对光控过程进行跟踪监测，达到释放的‘可控性’、‘可视性’。为在细胞生物环境下进行定量释放和积聚度研究提供新的研究方法。 | ||
| 搜索关键词： | 新型 酮类 光敏 保护 磷酸 解离 应用 | ||
【主权项】：
一种新型苯并噻喃酮类光敏保护基对磷酸基的保护和光解离脱保护的应用，所述新型苯并噻喃酮类光敏保护基的结构通式如下：![]()
其中，R1为：三氟甲基；芳基；R2为：对甲氧基；芳基。
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