[发明专利]基于边等距偏移的环切轨迹生成方法有效
| 申请号： | 201410730273.1 | 申请日： | 2014-12-05 |
| 公开（公告）号： | CN105652799B | 公开（公告）日： | 2018-03-06 |
| 发明（设计）人： | 潘海鸿;叶文海;陈琳;黄炳琼;甘霖 | 申请（专利权）人： | 广西大学 |
| 主分类号： | G05B19/4097 | 分类号： | G05B19/4097 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 530004 广西*** | 国省代码： | 广西;45 |
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| 摘要： | 本发明公开一种基于边等距偏移的环切轨迹生成方法，步骤包括(1)确定原始封闭轮廓；(2)确定原始封闭轮廓的方向；(3)确定原始封闭轮廓中各顶点的凹凸性并分类存放，同时设定等距半径；(4)局部无效区域检测与删除；(5)全局无效区域检测与删除(6)将原始封闭轮廓中存在有效区域的边按设定的偏移值生成环切轨迹；(7)令偏移值增加一个偏移半径，重复步骤(4)至步骤(6)，直至原封闭轮廓按设定的偏移值经过步骤(4)和步骤(5)后不存在有效区域的边。本发明可实现对由直线和圆弧组成且不存在自交点的二维封闭轮廓生成环切轨迹。因不需要对圆弧离散为微小直线段，可提高环切轨迹生成效率，减少因直线拟合带来的拟合误差。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 等距 偏移 轨迹 生成 方法 | ||
【主权项】：
一种基于边等距偏移的环切轨迹生成方法，其特征在于该方法包括以下步骤：(1)确定原始封闭轮廓，该原始封闭轮廓由直线和圆弧组成的二维封闭轮廓，且不存在自交点；(2)确定原始封闭轮廓的方向，并设定偏移半径；(3)确定原始封闭轮廓中各顶点的凹凸性并分类存放；初始化偏移值等于偏移半径；(4)局部无效区域检测与删除：以原始封闭轮廓作为输入，根据设定的偏移值对输入的原始封闭轮廓进行局部无效区域检测，并删除检测到的局部无效区域；(5)全局无效区域检测与删除：以步骤(4)处理后所获得的封闭轮廓作为输入，根据设定的偏移值对该封闭轮廓进行全局无效区域检测，并删除检测到的全局无效区域，获得原始封闭轮廓的有效区域；(6)将原始封闭轮廓中存在有效区域的边按设定的偏移值生成环切轨迹；(7)令偏移值增加一个偏移半径，重复步骤(4)至(6)，直至原封闭轮廓按设定的偏移值经过步骤(4)和步骤(5)后不存在有效区域的边。
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