[发明专利]一种α-氧化铝微粉除硅方法有效
申请号: | 201410732279.2 | 申请日: | 2015-08-04 |
公开(公告)号: | CN104495892A | 公开(公告)日: | 2015-07-29 |
发明(设计)人: | 李东红;范卫东 | 申请(专利权)人: | 中国铝业股份有限公司 |
主分类号: | C01F7/46 | 分类号: | C01F7/46;B03B5/28 |
代理公司: | 中国有色金属工业专利中心 11028 | 代理人: | 李子健;李迎春 |
地址: | 100082 北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种α-氧化铝微粉除硅方法,所述方法包括:一种高温α-氧化铝微粉除硅的方法,主要步骤包括:(1)将适量α-氧化铝粉体加入直径1.0m-2.0m,容积600L-2000L的圆柱形洗涤槽内,加水至氧化铝浆液固含在300-800g/L,搅拌20-40分钟后,静置4-10小时;(2)待粉体沉降后,排除洗涤用水,刮去沉降粉体上层0.3-0.6厘米厚的细颗粒氧化铝。(3)重复上述步骤三次。本发明根据颗粒大小和比重大小的不同,从而达到SiO2的富集,将富集SiO2粉体分离开来,即可有效的降低氧化铝粉体中的SiO2含量。 | ||
搜索关键词: | 一种 氧化铝 方法 | ||
【主权项】:
一种高温α‑氧化铝微粉除硅的方法,其特征在于,所述方法包括:(1)将α‑氧化铝粉体加入直径1.0m‑2.0m,容积600L‑2000L的圆柱形洗涤槽内;(2)加水至氧化铝浆液固含在300‑800g/L,搅拌20‑40分钟后,静置4‑10小时,待粉体沉降后,排除洗涤用水,刮去沉降粉体上层0.3‑0.6厘米厚的细颗粒氧化铝。
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