[发明专利]一种金钗石斛栽培方法在审
申请号: | 201410733812.7 | 申请日: | 2014-12-08 |
公开(公告)号: | CN105875368A | 公开(公告)日: | 2016-08-24 |
发明(设计)人: | 丘泰西 | 申请(专利权)人: | 丘泰西 |
主分类号: | A01G31/00 | 分类号: | A01G31/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 537726 广西壮族自治*** | 国省代码: | 广西;45 |
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摘要: | 一种金钗石斛栽培方法,采用遮荫大棚进行,栽培养料为:袋袋装木屑、碎石料、碎树叶,充分利用当地林木加工后的废弃资源,充分利用当地的建筑工地加工的废料,在大棚内控制水、温度、光照,开创了一条废弃资源的循环利用之路。本发明方法栽培所得金钗石斛的投入产出比其他金钗石斛栽培方法产出率高,实现了金钗石斛的安全高效栽培,既实现了可持续发展的经济发展模式,又保护了濒危绝迹的野生金钗石斛资源。 | ||
搜索关键词: | 一种 金钗 石斛 栽培 方法 | ||
【主权项】:
一种金钗石斛栽培方法,采用遮荫大棚进行栽培,其特征在于包括以下步骤:(1)采用木屑、碎石料、碎树叶按照2∶1∶2的比例混合作为金钗石斛的栽培基质,在使用木屑、碎石料、碎树叶前均需要经过适当消毒灭菌后,再加入3%的纳米碳、加入2%的钼酸铵、加入1%的红糖、加入4%氢氧化名品、加入3%酒精废液,搅拌混合均匀;(2)选种1年生的生长健壮、萌芽多、根系发达、无病虫害的株种做为金钗石斛的培养幼苗;(3)将株种以3株一丛种植在按比例配好的栽培基质上,丛与丛之间相距30厘米,株与株之间相隔20‑25厘米使其自然伸展生长,基质将其根系全部覆盖住为宜;(4)栽植后要注意调节大棚内的温度,金钗石斛最适宜生长的温度为20‑32℃,采用大棚栽培,大棚温度也应调在25‑28℃之间;最适宜金钗石斛生长的光照强度为5000‑10000lux,采用大棚栽培,大棚要注意遮阴,调节光照强度,避免光照过强或光照不足而影响金钗石斛幼苗的生长;(5)浇水给栽培的石斛幼苗要注意加强对水分的控制,保持基质处于湿润状态,相对水份控制在含水量在40%~50%之间为宜,移栽后7天内(幼苗尚未发新根)空气湿度保持在85%左右,7天后,植株开始发生新根,空气湿度保持在70%~80%,过干影响成活率,过湿容易烂根,栽种后的一个月施一次有机肥,帮助其茁壮成长,之后每隔两个月再施一次有机肥;(6)定时给其修枝除草,在采收老茎时要将丛内的枯茎剪除,每年要除草2次,每隔半年除草一次;(7)病虫害的预防,金钗石斛幼苗在生长期间容易发生煤污病、腐烂病、炭疽病等,要以预防为注,因此没有发生严重的病虫害前要用托布津稀释或多菌灵液喷雾;(8)采用大棚栽培,要3年采收一次,以栽培金钗石斛的当月进行,将无叶的茎条和干燥的茎剪下,留嫩去老。
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