[发明专利]4700nm带通红外滤光敏感元件有效

专利信息
申请号: 201410734380.1 申请日: 2014-12-07
公开(公告)号: CN104597547A 公开(公告)日: 2015-05-06
发明(设计)人: 王继平;吕晶;余初旺 申请(专利权)人: 杭州麦乐克电子科技有限公司
主分类号: G02B5/20 分类号: G02B5/20
代理公司: 杭州斯可睿专利事务所有限公司 33241 代理人: 周豪靖
地址: 311188 浙江省杭州市*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种4700nm带通红外滤光敏感元件,包括以蓝宝石为原材料的基板,以Ge、SiO为第一镀膜层和以Ge、SiO为第二镀膜层,且所述基板设于第一镀膜层与第二镀膜层之间。本发明所得到的一种4700nm带通红外滤光敏感元件,其中心波长4700±20nm,其在石化系统红外气体检测过程中,可大大的提高信噪比,提高测试精准度,适合于大范围的推广和使用。该滤光敏感元件的峰值透过率Tp≥80%,带宽=90±10nm,400~14000nm(除通带外),Tavg<0.5%。
搜索关键词: 4700 nm 通红 滤光 敏感 元件
【主权项】:
一种4700nm带通红外滤光敏感元件,包括以蓝宝石为原材料的基板(2),以Ge、SiO为第一镀膜层(1)和以Ge、ZnS为第二镀膜层(3),且所述基板(2)设于第一镀膜层(1)与第二镀膜层(3)之间,其特征是所述第一镀膜层(1)由内向外依次排列包含有103nm厚度的Ge层、346nm厚度的SiO层、160nm厚度的Ge层、160nm厚度的SiO层、122nm厚度的Ge层、353nm厚度的SiO层、134nm厚度的Ge层、294nm厚度的SiO层、145nm厚度的Ge层、203nm厚度的SiO层、101nm厚度的Ge层、478nm厚度的SiO层、215nm厚度的Ge层、301nm厚度的SiO层、145nm厚度的Ge层、604nm厚度的SiO层、245nm厚度的Ge层、265nm厚度的SiO层、126nm厚度的Ge层、645nm厚度的SiO层、243nm厚度的Ge层、323nm厚度的SiO层、37nm厚度的Ge层、788nm厚度的SiO层、416nm厚度的Ge层、807nm厚度的SiO层、487nm厚度的Ge层、339nm厚度的SiO层;所述的第二镀膜层(3)由内向外依次排列包含有140nm厚度的Ge层、526nm厚度的ZnS层、281nm厚度的Ge层、526nm厚度的ZnS层、561nm厚度的Ge层、526nm厚度的ZnS层、281nm厚度的Ge层、526nm厚度的ZnS层、281nm厚度的Ge层、526nm厚度的ZnS层、281nm厚度的Ge层、526nm厚度的ZnS层、281nm厚度的Ge层、526nm厚度的ZnS层、561nm厚度的Ge层、526nm厚度的ZnS层、281nm厚度的Ge层、526nm厚度的ZnS层、207nm厚度的Ge层、849nm厚度的ZnS层。
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