[发明专利]气体分析仪光路调节装置有效

专利信息
申请号: 201410736065.2 申请日: 2014-12-04
公开(公告)号: CN104375251A 公开(公告)日: 2015-02-25
发明(设计)人: 邓文平;朱道龙;赵辉 申请(专利权)人: 苏州谱道光电科技有限公司
主分类号: G02B7/00 分类号: G02B7/00;G01N21/01
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 常亮
地址: 215123 江苏省苏州市*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种气体分析仪光路调节装置,其设置于气体分析仪气体室腔壁上,用于对气体分析仪中的光学组件进行调节;光路调节装置包括:调节主结构和调节辅结构,调节辅结构形成于调节主结构上,通过调节辅结构调节调节主结构,调节主结构可相对气体室腔壁位移,调节调节辅结构的力源沿调节主结构的径向方向,光学组件安装于调节主结构上,随调节主结构运动。本发明的气体分析仪光路调节装置滑动设置于气体腔室的腔壁上,进行光路调节时,调节作用力为位于调节装置径向方位的力源,其不受气体腔室内部或分析仪外部箱体空间的限制,可对气体分析仪内的光路进行连续调节,从而解决了调节过程中仅从轴向调节操作受空间限制的缺陷。
搜索关键词: 气体 分析 仪光路 调节 装置
【主权项】:
一种气体分析仪光路调节装置,其特征在于,所述光路调节装置设置于气体分析仪气体室腔壁上,用于对气体分析仪中的光学组件进行调节;所述光路调节装置包括:调节主结构和调节辅结构,所述调节辅结构形成于所述调节主结构上,通过所述调节辅结构调节所述调节主结构,所述调节主结构可相对所述气体室腔壁位移,调节所述调节辅结构的力源位于所述调节主结构的径向方位;所述光学组件安装于所述调节主结构上,随所述调节主结构运动。
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