[发明专利]一种原子层沉积设备和应用

摘要

本发明公开一种原子层沉积设备和应用，惰性气体储罐通过输气管分别连接第一流量计的进气口和第二流量计的进气口，第一流量计的出气口和第二流量计的出气口分别通过输气管与反应腔体的进气口相连，反应腔体的出气口与真空泵相连，在第一流量计的出气口和反应腔体的进气口之间的输气管路上还设置有第一反应物料罐，在第二流量计的出气口和反应腔体的进气口之间的输气管路上设置有第二反应物料罐，第一反应物料罐内设置有第一温控装置，第二反应物料罐内设置有第二温控装置，反应腔体内设置第三温控装置。本发明结构简单，使用方便，成本降低，在进行使用时，通过控制通入的周期数来控制生长的薄膜的厚度。

主权项

一种原子层沉积设备，其特征在于，包括：惰性气体储罐，调节阀，输气管，第一流量计，第二流量计，第一电控阀，第一反应物料罐，第二电控阀，第二反应物料罐，真空泵，反应腔体，其中：所述惰性气体储罐通过输气管分别连接第一流量计的进气口和第二流量计的进气口，在惰性气体储罐的出气口处设置有调节阀；第一流量计的出气口和第二流量计的出气口分别通过输气管与反应腔体的进气口相连，反应腔体的出气口与真空泵相连；在第一流量计的出气口和反应腔体的进气口之间的输气管路上还设置有第一反应物料罐，且第一反应物料罐通过第一电控阀与输气管相联通；在第二流量计的出气口和反应腔体的进气口之间的输气管路上设置有第二反应物料罐，且第二反应物料罐通过第二电控阀与输气管相联通；第一反应物料罐内设置有第一温控装置，第二反应物料罐内设置有第二温控装置，反应腔体内设置第三温控装置。