[发明专利]一种利用表面等离激元散射对纳米物质进行成像的检测方法有效
| 申请号： | 201410751328.7 | 申请日： | 2014-12-09 |
| 公开（公告）号： | CN104792746B | 公开（公告）日： | 2018-06-26 |
| 发明（设计）人： | 路鑫超;刘虹遥;陈鲁 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所 |
| 主分类号： | G01N21/63 | 分类号： | G01N21/63 |
| 代理公司： | 北京华沛德权律师事务所 11302 | 代理人： | 刘杰 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开一种利用表面等离激元散射对纳米物质进行成像的检测方法，所述检测方法包括：在盖玻片上镀金薄膜；在所述金薄膜上附着纳米物质；光源发出的光经过扩束整形后，以p偏振态聚焦到油浸物镜的后焦平面；调节入射光在油浸物镜的后焦平面上的位置，使入射光斜入射到所述盖玻片上，在所述金薄膜表面激发表面等离激元，所述表面等离激元沿金薄膜表面传播，与所述纳米物质产生散射；所产生的表面等离激元散射转化为光信号与反射光一起被油浸物镜收集；通过CCD对所收集的包含有表面等离激元散射信号的反射光进行成像。 | ||
| 搜索关键词： | 表面等离激元 纳米物质 散射 油浸物镜 金薄膜 成像 后焦平面 反射光 盖玻片 入射光 检测 表面传播 表面激发 镀金薄膜 扩束整形 散射信号 斜入射 附着 光源 聚焦 转化 | ||
【主权项】：
1.一种利用表面等离激元散射对纳米物质进行成像的检测方法，其特征在于，所述检测方法包括：在盖玻片上镀金薄膜；在所述金薄膜上附着纳米物质；光源发出的光经过扩束整形后，以p偏振态聚焦到油浸物镜的后焦平面；调节入射光在油浸物镜的后焦平面上的位置，使入射光斜入射到所述盖玻片上，在所述金薄膜表面激发表面等离激元，所述表面等离激元沿金薄膜表面传播，与所述纳米物质产生散射；所述表面等离激元散射转化为光信号与反射光一起被所述油浸物镜收集，通过CCD对所收集的光进行成像；其中，所述通过CCD对所收集的光进行成像，包括：用CCD测量无任何纳米物质的反射光作为背景光斑；用CCD测量有所述纳米物质的反射光作为当前光斑；将所述背景光斑与所述当前光斑相减，获得所述纳米物质引起表面等离激元散射场。
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