[发明专利]一种阿魏酸/甲基丙烯酸分子印迹聚合物修饰玻碳电极的制备方法在审
申请号: | 201410761157.6 | 申请日: | 2014-12-12 |
公开(公告)号: | CN104407030A | 公开(公告)日: | 2015-03-11 |
发明(设计)人: | 李利军;崔福海 | 申请(专利权)人: | 广西科技大学 |
主分类号: | G01N27/30 | 分类号: | G01N27/30 |
代理公司: | 北京中恒高博知识产权代理有限公司 11249 | 代理人: | 牟彩萍 |
地址: | 545006 广西壮族*** | 国省代码: | 广西;45 |
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摘要: | 本发明公开了一种阿魏酸/甲基丙烯酸分子印迹聚合物修饰玻碳电极的制备方法,1)将玻碳电极分别用金相砂纸打磨,再用0.5和0.3μmA12O3粉抛光至镜面,冲洗掉多余的抛光粉后依次用水、1:1硝酸溶液、无水乙醇和水、水超声清洗;2)将阿魏酸、甲基丙烯酸、AIBN、EGDMA按一定体积比振荡混合得到均一、稳定的复合物溶液,然后将用移液枪吸取上述溶液滴在玻碳电极的表面,放置在60℃的恒温干燥箱中,即可得到阿魏酸/甲基丙烯酸修饰的玻碳电极。 | ||
搜索关键词: | 一种 阿魏酸 甲基丙烯酸 分子 印迹 聚合物 修饰 电极 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种阿魏酸/甲基丙烯酸分子印迹聚合物修饰玻碳电极的制备方法,其特征在于:包括如下步骤:1)电极的预处理 将玻碳电极分别用金相砂纸打磨,再用0.5和0.3μm A12O3 粉抛光至镜面,冲洗掉多余的抛光粉后依次用水、1:1硝酸溶液、无水乙醇和水、水超声清洗;2)电极的制备将阿魏酸、甲基丙烯酸、AIBN、EGDMA按一定体积比振荡混合得到均一、稳定的复合物溶液,然后将用移液枪吸取上述溶液滴在玻碳电极的表面,放置在60℃的恒温干燥箱中,即可得到阿魏酸/甲基丙烯酸修饰的玻碳电极。
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