[发明专利]键开关装置和键盘有效
| 申请号： | 201410767031.X | 申请日： | 2014-12-12 |
| 公开（公告）号： | CN104715953B | 公开（公告）日： | 2018-04-03 |
| 发明（设计）人： | 西野武志;中村修二;竹前安纪彦;小池保 | 申请（专利权）人： | 富士通电子零件有限公司 |
| 主分类号： | H01H13/705 | 分类号： | H01H13/705 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038 | 代理人： | 胡海滔 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种键开关装置(100‑104)，所述键开关装置包括待被下压的操作构件(10)；开关(14d)，所述开关布置在所述操作构件下方；反作用力产生构件(15)，所述反作用力产生构件设置在所述操作构件和所述开关之间，通过所述操作构件的下压实施弹性压曲变形，根据所述弹性压曲变形对所述操作构件产生反作用力；和下压构件(16)，所述下压构件设置在所述操作构件和所述开关之间，并且下压所述开关；其中，所述反作用力产生构件包括支撑件(15e)，所述支撑件支撑所述下压构件。 | ||
| 搜索关键词： | 开关 装置 键盘 | ||
【主权项】：
一种键开关装置(100‑104)，其特征在于，所述键开关装置包括：待被下压的操作构件(10)；开关(14d)，所述开关布置在所述操作构件下方；反作用力产生构件(15)，所述反作用力产生构件设置在所述操作构件和所述开关之间，通过所述操作构件的下压实施弹性压曲变形，根据所述弹性压曲变形对所述操作构件产生反作用力；和下压构件(16)，所述下压构件设置在所述操作构件和所述开关之间，下压所述开关，并且包括螺旋弹簧(16b)和基部构件(16a)，所述基部构件固定所述螺旋弹簧的一个端部；其中，所述反作用力产生构件包括支撑件(15e)，所述支撑件支撑所述下压构件的基部构件；用于使得所述螺旋弹簧通过的通孔形成在所述反作用力产生构件的中心处。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于富士通电子零件有限公司，未经富士通电子零件有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201410767031.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种真空灭弧室及其筒体
- 下一篇：共模线圈
