[发明专利]钻孔柱状图岩性描述布局数学规划方法有效
申请号: | 201410767275.8 | 申请日: | 2014-12-11 |
公开(公告)号: | CN104778296B | 公开(公告)日: | 2020-09-08 |
发明(设计)人: | 解华明;黄明;朱传华;舒莹;冯少茹;李雪飞;潘法康 | 申请(专利权)人: | 安徽建筑大学 |
主分类号: | G06F30/20 | 分类号: | G06F30/20;G06T11/60 |
代理公司: | 安徽合肥华信知识产权代理有限公司 34112 | 代理人: | 余成俊 |
地址: | 230032 *** | 国省代码: | 安徽;34 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种钻孔柱状图岩性描述布局数学规划方法,通过对钻孔成图过程的分析,将岩性文字描述布局问题进行数学抽象,对柱状图中岩性花纹柱总高度大于或等于岩性文字描述总高度的一类问题,建立了非线性数学规划模型,并将其转化为线性规划问题求解。通过该方法可以实现自动进行地层岩性花纹对应的岩性文字描述的合理布局,对于绘制钻孔柱状图或开发钻孔柱状图自动成图软件具有重要的指导意义。 | ||
搜索关键词: | 钻孔 柱状图 描述 布局 数学 规划 方法 | ||
【主权项】:
钻孔柱状图岩性描述布局数学规划算法,其特征在于:首先获得相关钻孔柱状图地层数n,计算第i个地层岩性花纹在图中的高度为Li和第i个地层对应的岩性文字描述的高度为Hi;然后求解岩性文字描述纵向中心线纵坐标Pi的合理位置;最后根据Pi绘制对应线,包括以下三个部分:第一部分,获得地层数并计算各层L和H:(1)、根据钻孔资料和绘制要求,得到:钻孔柱状图比例尺,柱状图地层数n,柱状图中要绘制的各个地层视厚度、岩性描述总字数,以及岩性描述文字的字宽、字高、字间距、行间距;(2)、计算第i个地层岩性花纹在图中的高度为Li,Li=钻孔柱状图比例尺×第i个地层的视厚度(3)、计算第i个地层对应的岩性文字描述的高度为Hi,可以用下式进行高度H的简单计算:每行字数=向下取整((栏宽+字间距)/(字宽+字间距)),第i个地层对应的岩性文字描述行数=向上取整(总字数/每行字数),Hi=行数×字高+(行数‑1)×行间距;第二部分,求解岩性文字描述纵向中心线纵坐标Pi的合理位置:(4)、判断如否执行步骤(5),如是执行步骤(6);(5)、判断绘制参数是否可调,如是让用户重新设置这些参数,直到步骤(4)的条件满足,如否则 计算完成后,进行第三部分;(6)、计算第i个地层岩性花纹纵向中心线纵坐标, (7)、判断对于任一地层i,是否Li≥Hi(i=1,2…n)都成立,如是则直接令Pi=Mi,进行第三部分;如否则执行后续步骤;(8)、利用单纯形法,求解数学规划模型中的xi+、xi‑(i=1,2,…,n): (9)、求解Pi,Pi=xi+‑xi‑+Mi(i=1,2,…,n),然后进行第三部分;第三部分,根据Pi绘制对应线:(10)、第i个地层(i=1,…,n‑1)的下边界对应线由三个点P1i(x1,y1i)、P2i(x2,y2i)、P3i(x3,y3i)连线确定,根据版面布局直接确定x1,x2,x3;(11)、计算第i个地层岩性花纹柱上边界纵坐标Tti,下边界纵坐标Tbi,以及第i个地层岩性文字描述的上边界纵坐标为Wti,下边界纵坐标为Wbi;其中, (12)、计算y1i、y2i、y3i(i=1,2…n),当i=n时,即为最后一个地层时,y1n=Tbn,(13)、根据P1i、P2i、P3i(i=1,2…n)三点坐标绘折线,当i=1时,对应线是柱状图边框,不用绘制。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于安徽建筑大学,未经安徽建筑大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410767275.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。