[发明专利]匀光结构及匀光系统有效
申请号: | 201410767573.7 | 申请日: | 2014-12-12 |
公开(公告)号: | CN105739101B | 公开(公告)日: | 2020-02-28 |
发明(设计)人: | 杨佳翼;胡飞;谢颂婷 | 申请(专利权)人: | 深圳光峰科技股份有限公司 |
主分类号: | G02B27/09 | 分类号: | G02B27/09;G02B3/00;G02B5/04 |
代理公司: | 深圳市深佳知识产权代理事务所(普通合伙) 44285 | 代理人: | 王仲凯 |
地址: | 518000 广东省深圳市南山区粤*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种匀光结构及匀光系统,包括:匀光基板,匀光基板包括基板本体,和位于基板本体任意一表面的第一图案结构,第一图案结构包括多个微结构,用于对照射到其表面的入射光束进行匀光;以及,位于匀光基板任意一表面一侧的反射层,且反射层的反射面朝向匀光基板。在匀光基板的任意一表面设置一反射层,当入射光束照射到匀光基板未设置反射层一侧表面时,部分光线被该表面反射;而后部分光线入射至反射层的表面后,被反射出匀光基板,因此被匀光结构匀光后的光束为二次反射后的光束。即本发明提供的匀光结构将高斯分布的入射光束,整形为平顶分布的光束,该光束扩散角度小,有利于光束的收集,满足了显示系统体积小、质量轻等要求。 | ||
搜索关键词: | 结构 系统 | ||
【主权项】:
一种匀光结构,其特征在于,包括:匀光基板,所述匀光基板包括基板本体,和位于所述基板本体任意一表面的第一图案结构,所述第一图案结构包括多个微结构,用于对照射到其表面的入射光束进行匀光;以及,位于所述匀光基板任意一表面一侧的反射层,且所述反射层的反射面朝向所述匀光基板。
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