[发明专利]匀光结构及匀光系统有效

专利信息
申请号: 201410767573.7 申请日: 2014-12-12
公开(公告)号: CN105739101B 公开(公告)日: 2020-02-28
发明(设计)人: 杨佳翼;胡飞;谢颂婷 申请(专利权)人: 深圳光峰科技股份有限公司
主分类号: G02B27/09 分类号: G02B27/09;G02B3/00;G02B5/04
代理公司: 深圳市深佳知识产权代理事务所(普通合伙) 44285 代理人: 王仲凯
地址: 518000 广东省深圳市南山区粤*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种匀光结构及匀光系统,包括:匀光基板,匀光基板包括基板本体,和位于基板本体任意一表面的第一图案结构,第一图案结构包括多个微结构,用于对照射到其表面的入射光束进行匀光;以及,位于匀光基板任意一表面一侧的反射层,且反射层的反射面朝向匀光基板。在匀光基板的任意一表面设置一反射层,当入射光束照射到匀光基板未设置反射层一侧表面时,部分光线被该表面反射;而后部分光线入射至反射层的表面后,被反射出匀光基板,因此被匀光结构匀光后的光束为二次反射后的光束。即本发明提供的匀光结构将高斯分布的入射光束,整形为平顶分布的光束,该光束扩散角度小,有利于光束的收集,满足了显示系统体积小、质量轻等要求。
搜索关键词: 结构 系统
【主权项】:
一种匀光结构,其特征在于,包括:匀光基板,所述匀光基板包括基板本体,和位于所述基板本体任意一表面的第一图案结构,所述第一图案结构包括多个微结构,用于对照射到其表面的入射光束进行匀光;以及,位于所述匀光基板任意一表面一侧的反射层,且所述反射层的反射面朝向所述匀光基板。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳光峰科技股份有限公司,未经深圳光峰科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410767573.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top