[发明专利]一种微透镜阵列制备方法在审
| 申请号： | 201410767693.7 | 申请日： | 2014-12-12 |
| 公开（公告）号： | CN104503007A | 公开（公告）日： | 2015-04-08 |
| 发明（设计）人： | 龙冈 | 申请（专利权）人： | 成都纳光科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B3/00 | 分类号： | G02B3/00;G02B1/00;G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京轻创知识产权代理有限公司11212 | 代理人： | 杨立 |
| 地址： | 610207四川省成都市*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种蓝宝石玻璃材质的微透镜阵列制备方法，包括以下步骤：1)制作目标结构掩模板；2)在清洗干净的蓝宝石玻璃基板上涂覆一层光刻胶；3)通过光刻把目标结构掩模板图形转印到蓝宝石玻璃基板上；4)对蓝宝石玻璃基板进行加热，得到光刻胶微透镜阵列模版；5)采用离子束刻蚀机对制作好光刻胶微透镜阵列的蓝宝石玻璃基板进行刻蚀；6)完全去除蓝宝石玻璃基板上的光刻胶，得到由蓝宝石玻璃作为结构层和基底的微透镜阵列。本发明制作的微透镜阵列具有耐高温、导热好、硬度高、透红外、稳定性好、应用广泛等特点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 透镜 阵列 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种微透镜阵列制备方法，其特征在于，包括以下步骤：1)制作目标结构掩模板；2)将基板清洗干净，并在所述基板上涂覆一层光刻胶；3)将步骤1)制作的目标结构掩模板转印到步骤2)所述的基板上，得到光刻胶图形模板；4)将步骤3)得到的光刻胶图形模板加热，得到光刻胶微透镜阵列模板；5)将步骤4)得到的光刻胶微透镜阵列模板进行刻蚀；6)去除光刻胶，得到所述微透镜阵列。
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