[发明专利]具有可见光响应的量子点/二氧化钛复合纳米点阵列及其制备方法有效
| 申请号： | 201410769605.7 | 申请日： | 2014-12-15 |
| 公开（公告）号： | CN104449698A | 公开（公告）日： | 2015-03-25 |
| 发明（设计）人： | 程逵;王小召;翁文剑 | 申请（专利权）人： | 浙江大学 |
| 主分类号： | C09K11/65 | 分类号： | C09K11/65;C09K11/56;C09K11/88;B82Y30/00;B82Y20/00;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人： | 韩介梅 |
| 地址： | 310027 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开的具有可见光响应的量子点/二氧化钛复合纳米点阵列在基底表面，复合纳米点阵列中的每个纳米点由二氧化钛包裹可见光响应量子点构成，复合纳米点的尺寸为50～200nm，密度为0.31×1010~3.01×1010cm-2。其制备过程为一步法，即在配制旋涂液时加入量子点，通过溶胶-凝胶旋涂法将其旋涂于基板表面，水热法或直接退火制备量子点/二氧化钛复合纳米点阵列，工艺简单，易于实现。通过调节量子点的种类及其激发波长，可调节复合纳米点阵列对光的响应性及利用率；并利用不同波长的可见光改变材料表面的亲疏水性，从而实现后期的细胞脱附，为可见光脱附细胞提供了可能。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 可见光 响应 量子 氧化 复合 纳米 阵列 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
具有可见光响应的量子点/二氧化钛复合纳米点阵列，其特征在于该复合纳米点阵列在基底表面，复合纳米点阵列中的每个纳米点由二氧化钛包裹可见光响应量子点构成，复合纳米点的尺寸为50～200 nm，密度为0.31×1010~3.01×1010 cm‑2。
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