[发明专利]一种图形化的蓝宝石衬底的制造方法在审
| 申请号： | 201410774549.6 | 申请日： | 2014-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN104576845A | 公开（公告）日： | 2015-04-29 |
| 发明（设计）人： | 夏鼎智 | 申请（专利权）人： | 深圳市德上光电有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/00 | 分类号： | H01L33/00 |
| 代理公司： | 深圳国鑫联合知识产权代理事务所(普通合伙) 44324 | 代理人： | 王志强 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市光明新区*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 一种图形化的蓝宝石衬底的制造方法，提供一平坦衬底，在其表面形成掩模层；利用光刻技术在其表面制作图形化的掩模层；利用图形化的掩模层，采用湿法腐蚀或干法刻蚀工艺在衬底表面形成图形化并去掉掩模层；在图形化的衬底表面形成绝缘介质膜；利用光刻技术保护图形化衬底间隙之间的绝缘介质膜；采用湿法腐蚀或干法刻蚀工艺去掉光刻保护以外的绝缘介质膜。本衬底制造方法采用绝缘介质膜表面不能够生长外延，避免了垂直方向的外延生长，增加了侧向外延生长，降低了发光区位错密度。采用一定膜厚的绝缘介质膜填充了图形化衬底间隙，使间隙深度变浅，减少了外延生长周期。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 图形 蓝宝石 衬底 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种图形化的蓝宝石衬底的制造方法，其特征在于，包括如下步骤：A.提供一平坦衬底，在其表面形成掩模层；B.利用光刻技术在其表面制作图形化的掩模层；C.利用图形化的掩模层，采用湿法腐蚀或干法刻蚀工艺在衬底表面形成图形化并去掉掩模层；D.在图形化的衬底表面形成绝缘介质膜；E.利用光刻技术保护图形化衬底间隙之间的绝缘介质膜；F.采用湿法腐蚀或干法刻蚀工艺去掉光刻保护以外的绝缘介质膜。
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