[发明专利]一种双重图形拆分冲突的消除方法有效
| 申请号： | 201410775384.4 | 申请日： | 2014-12-15 |
| 公开（公告）号： | CN104392074B | 公开（公告）日： | 2018-04-03 |
| 发明（设计）人： | 胡红梅 | 申请（专利权）人： | 上海集成电路研发中心有限公司 |
| 主分类号： | G06F17/50 | 分类号： | G06F17/50 |
| 代理公司： | 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙)31275 | 代理人： | 吴世华,林彦之 |
| 地址： | 201210 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种双重图形拆分冲突的消除方法，通过根据不同结构制定不同类型的规范，根据规范查找相应的结构，找出和标记版图中违反规范的结构，然后根据奇数个标记和相应的结构所组成的密闭区域来确定存在拆分冲突的结构，最后根据存在拆分冲突的结构确定修改方式并修改从而消除拆分冲突，并且重复上述查找、标记和修改过程，最终消除版图中所有存在的拆分冲突，为顺利进行双重图形拆分和后续的双重图形曝光做好准备；并且，本发明的方法可以通过程序代码来控制，避免了人工查找和修改版图的繁琐过程，节约了时间和成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 双重 图形 拆分 冲突 消除 方法 | ||
【主权项】：
一种双重图形拆分冲突的消除方法，其特征在于，包括：步骤01：制定版图中不同结构之间的规范；步骤02：按照所述规范检查所述版图中的结构并标记所述版图中违反规范的结构；步骤03：找出奇数个所述标记和相应的所述版图中的结构所组成的密闭区域，位于所述密闭区域中的结构为存在拆分冲突的结构；步骤04：根据所述存在拆分冲突的结构确定修改方法，并依此对所述存在拆分冲突的结构进行修改从而消除拆分冲突；步骤05：重复步骤02‑04，直至消除掉所述版图中所有存在的拆分冲突。
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