[发明专利]样品测量池在审
| 申请号： | 201410782027.0 | 申请日： | 2014-12-17 |
| 公开（公告）号： | CN105445196A | 公开（公告）日： | 2016-03-30 |
| 发明（设计）人： | 邓文平 | 申请（专利权）人： | 邓文平 |
| 主分类号： | G01N21/03 | 分类号： | G01N21/03 |
| 代理公司： | 苏州威世朋知识产权代理事务所(普通合伙) 32235 | 代理人： | 杨林洁 |
| 地址： | 215123 江苏省苏州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明揭示了一种样品测量池，所述样品测量池包括反射腔及至少一个反射结构，反射腔用于容置待测样品；反射结构设置于反射腔的边界；反射结构包括接触待测样品的接触面和远离待测样品的反射面；本发明的样品接触面对样品具有化学惰性，同时设置反射面为远离待测样品的一面，以使待测样品及样品中的杂质不会破坏起反射作用的反射面。本发明兼顾了样品测量池的环境适应能力强和长光程的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 样品 测量 | ||
【主权项】：
一种样品测量池，其特征在于，所述样品测量池包括：反射腔，用于容置待测样品；以及至少一个反射结构，所述至少一个反射结构设置于所述反射腔的边界；其中，所述反射结构包括接触面和反射面，所述接触面接触所述待测样品，所述反射面远离所述待测样品；所述接触面及所述反射面的至少其中之一为非平面；入射光于所述反射腔内多次反射以形成测量光路路径，所述入射光通过入射部分进入所述反射腔，所述入射部分为所述入射光与所述测量光路路径初次接触的部分，所述入射部分与所述反射面之间为非连续设置。
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