[发明专利]屏蔽电机推力轴承石墨推力瓦块柱面研磨工艺有效
申请号: | 201410783756.8 | 申请日: | 2014-12-17 |
公开(公告)号: | CN104476380B | 公开(公告)日: | 2016-11-16 |
发明(设计)人: | 曲建;柴文虎;赖俊良;张韵曾;杨立峰;李楠;金超;王晗钰 | 申请(专利权)人: | 哈尔滨电气动力装备有限公司 |
主分类号: | B24B37/02 | 分类号: | B24B37/02;B24B37/005 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 150066 黑龙江省哈尔滨市平房区哈南工业*** | 国省代码: | 黑龙江;23 |
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摘要: | 本发明涉及一种屏蔽电机推力轴承石墨推力瓦块柱面研磨工艺,使用研磨板、支撑板进行石墨推力瓦块柱面研磨,检查研磨板平面度;使用开槽研磨盘研磨研磨板平面;在研磨板左右支腿与支撑板之间放置不锈钢垫片并紧固螺栓使研磨板产生弹性变形形成一定弧度;石墨推力瓦块在研磨板上进行研磨,通过检测石墨推力瓦块柱面核实研磨板弧度是否合适;调节不锈钢垫片厚度并再次研磨直到得到一个可接受的石墨推力瓦块柱面。本发明可以实现石墨推力瓦块大尺寸柱面研磨,柱面各测量点相对高度公差控制在±0.005mm以内,通过此石墨推力瓦块柱面,电机正反转都可形成一层润滑水膜,从而大大提高机组安全性能及屏蔽电机使用寿命。 | ||
搜索关键词: | 屏蔽 电机 推力 轴承 石墨 瓦块 柱面 研磨 工艺 | ||
【主权项】:
一种屏蔽电机推力轴承石墨推力瓦块柱面研磨工艺,其特征是:使用石墨推力瓦块(6)在研磨板(1)进行研磨,所述工艺包括以下步骤:a)检查研磨板(1)平面度,使用紧固螺栓(3)将研磨板(1)与支撑板(2)紧固,测量研磨板(1)平面度;b)如果操作步骤a)检测的研磨板(1)平面度没有达到技术要求,使用开槽研磨盘(4)配合研磨剂与研磨板(1)互研修复研磨板(1)平面度;c)在研磨板(1)的左、右两侧支腿与支撑板(2)之间放置等厚不锈钢垫片(5)并紧固螺栓(3),使研磨板(1)平面产生弹性变形形成一定弧度,不锈钢垫片(5)的厚度将会在后续验证工作后进行调整;d)使用石墨推力瓦块(6)在研磨板(1)上进行研磨,通过检测石墨推力瓦块(6)柱面核实研磨板(1)弧度是否合适;e)通过调节步骤c)操作中不锈钢垫片(5)厚度及重复步骤d)操作直到得到一个符合要求的石墨推力瓦块(6)柱面,石墨推力瓦块(6)柱面检测要求如下:石墨推力瓦块(6)柱面分9个测量点,上部测量点A、D、A1,三点位于同一节圆上,A、A1点距两侧边等距,D点位于石墨推力瓦块(6)中心线上;中部测量点B、E、B1,三点位于同一节圆上,B、B1点距两侧边等距且距离与上部测量点A、A1点到侧边距离一致,E点为石墨推力瓦块(6)中心点;下部测量点C、D1、C1,三点位于同一节圆上,C、C1点距两侧边等距且距离与上部测量点A、A1点到侧边距离一致,D1点位于石墨推力瓦块(6)中心线上;测量时首先以D、D1、B、B1调平石墨推力瓦块(6),然后通过激光扫描测量各点距中心点E的相对高度,此相对高度应与石墨推力瓦块(6)R500m柱面各点的理论计算值一致,偏差允许在±0.005mm以内,且经过激光扫描石墨推力瓦块(6)柱面横截面弧度应顺滑无明显凹点,石墨推力瓦块(6)柱面纵向截面应平直无明显凸凹点,如果达到以上测量要求则此块经过研磨的石墨推力瓦块(6)符合要求。
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