[发明专利]曝光装置、图像形成装置和曝光装置的制造方法有效
申请号: | 201410784717.X | 申请日: | 2014-12-16 |
公开(公告)号: | CN105182712B | 公开(公告)日: | 2019-12-10 |
发明(设计)人: | 冈崎祥也 | 申请(专利权)人: | 富士施乐株式会社 |
主分类号: | G03G15/043 | 分类号: | G03G15/043;G03G15/04 |
代理公司: | 11127 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 吕俊刚;刘久亮 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 曝光装置、图像形成装置和曝光装置的制造方法,所述曝光装置包括:基板;多个发光元件,该多个发光元件沿着基板的纵向布置在基板上,每个发光元件具有沿着纵向排列的多个发光点;壳体,基板和光学元件固定到该壳体,使得发光点与光学元件相对;以及控制部,该控制部进行控制,以使布置在基板上的多个发光元件中的所有所述发光点的、在基板沿纵向的相对端处的发光点不发光。 | ||
搜索关键词: | 曝光 装置 图像 形成 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种曝光装置的制造方法,该方法包括以下步骤:/n在基板上布置多个发光元件和非易失性存储器,各个发光元件具有多个发光点的线性排列,使得所述发光元件沿着所述基板的纵向布置在所述基板上;/n将所述基板和光学元件固定到壳体,以在使所述基板沿所述纵向的一端与由所述壳体的长通孔形成的内壁中的该一端侧的内壁抵靠的状态下,使所述发光点与所述光学元件相对;以及/n将被设置为不发光的所述发光点的位置信息写入到所述非易失性存储器中,被设置为不发光的所述发光点比沿所述纵向离所述壳体的外壁预定距离的部位更靠近所述外壁,所述外壁在所述壳体的被所述基板抵靠的该一端侧。/n
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