[发明专利]纳米级MCM-49分子筛制备方法在审
申请号: | 201410785293.9 | 申请日: | 2014-12-16 |
公开(公告)号: | CN104495866A | 公开(公告)日: | 2015-04-08 |
发明(设计)人: | 邢海军;尚勤杰;李永刚;宁春利;张春雷 | 申请(专利权)人: | 上海华谊(集团)公司 |
主分类号: | C01B39/04 | 分类号: | C01B39/04 |
代理公司: | 上海申新律师事务所31272 | 代理人: | 张惠明 |
地址: | 200025 *** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 本发明涉及一种纳米级MCM-49分子筛制备方法,主要解决现有技术中晶化时间较长、硅铝比范围较窄的问题。本发明通过采用一种纳米级MCM-49分子筛制备方法,将硅源、铝源、模板剂和水按比例混合,然后向混合物中加入该混合物干基重量的0.01~1%的MCM-49分子筛活性晶种,在156~185℃条件下晶化0.1~100小时后,晶化物料经固液分离、洗涤,在140~200℃干燥1~72小时,得到纳米级MCM-49分子筛,所述纳米级MCM-49分子筛晶粒形貌为直径为50~900nm,厚度为10~100nm的片状晶体的技术方案较好地解决了上述问题,可用于纳米级MCM-49分子筛制备中。 | ||
搜索关键词: | 纳米 mcm 49 分子筛 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种纳米级MCM?49分子筛制备方法,将硅源、铝源、模板剂和水按摩尔比计:SiO2/Al2O3为15~29,Na2O/SiO2为0.01~0.1,模板剂/SiO2为0.07~1.5,H2O/SiO2为9~30的比例混合,然后向混合物中加入该混合物干基重量的0.01~1%的MCM?49分子筛活性晶种,在156~185℃条件下晶化0.1~100小时后,晶化物料经固液分离、洗涤,在140~200℃干燥1~72小时,得到纳米级MCM?49分子筛,所述纳米级MCM?49分子筛晶粒形貌为直径为50~900nm,厚度为10~100nm的片状晶体;其中,所述硅源为硅溶胶、水玻璃中的至少一种,铝源为铝酸钠、氢氧化铝、拟薄水铝石、活性氧化铝中的至少一种,模板剂为哌啶。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海华谊(集团)公司,未经上海华谊(集团)公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410785293.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。