[发明专利]纳米级MCM-49分子筛制备方法在审

专利信息
申请号: 201410785293.9 申请日: 2014-12-16
公开(公告)号: CN104495866A 公开(公告)日: 2015-04-08
发明(设计)人: 邢海军;尚勤杰;李永刚;宁春利;张春雷 申请(专利权)人: 上海华谊(集团)公司
主分类号: C01B39/04 分类号: C01B39/04
代理公司: 上海申新律师事务所31272 代理人: 张惠明
地址: 200025 *** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 发明涉及一种纳米级MCM-49分子筛制备方法,主要解决现有技术中晶化时间较长、硅铝比范围较窄的问题。本发明通过采用一种纳米级MCM-49分子筛制备方法,将硅源、铝源、模板剂和水按比例混合,然后向混合物中加入该混合物干基重量的0.01~1%的MCM-49分子筛活性晶种,在156~185℃条件下晶化0.1~100小时后,晶化物料经固液分离、洗涤,在140~200℃干燥1~72小时,得到纳米级MCM-49分子筛,所述纳米级MCM-49分子筛晶粒形貌为直径为50~900nm,厚度为10~100nm的片状晶体的技术方案较好地解决了上述问题,可用于纳米级MCM-49分子筛制备中。
搜索关键词: 纳米 mcm 49 分子筛 制备 方法
【主权项】:
一种纳米级MCM?49分子筛制备方法,将硅源、铝源、模板剂和水按摩尔比计:SiO2/Al2O3为15~29,Na2O/SiO2为0.01~0.1,模板剂/SiO2为0.07~1.5,H2O/SiO2为9~30的比例混合,然后向混合物中加入该混合物干基重量的0.01~1%的MCM?49分子筛活性晶种,在156~185℃条件下晶化0.1~100小时后,晶化物料经固液分离、洗涤,在140~200℃干燥1~72小时,得到纳米级MCM?49分子筛,所述纳米级MCM?49分子筛晶粒形貌为直径为50~900nm,厚度为10~100nm的片状晶体;其中,所述硅源为硅溶胶、水玻璃中的至少一种,铝源为铝酸钠、氢氧化铝、拟薄水铝石、活性氧化铝中的至少一种,模板剂为哌啶。
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