[发明专利]一种基板内置环形磁芯电感的工艺方法有效
申请号: | 201410785623.4 | 申请日: | 2014-12-18 |
公开(公告)号: | CN104465329A | 公开(公告)日: | 2015-03-25 |
发明(设计)人: | 张立东 | 申请(专利权)人: | 江苏长电科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/02 | 分类号: | H01L21/02 |
代理公司: | 江阴市同盛专利事务所(普通合伙) 32210 | 代理人: | 唐纫兰 |
地址: | 214434 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种基板内置环形磁芯电感的工艺方法,它包括以下步骤:步骤一、在载板表面做出第一层铜线路;步骤二、在第一层铜线路上电镀形成内外两圈铜柱;步骤三、在内外两圈铜柱之间加入环形微磁芯;步骤四、对载板表面进行包封减薄,露出铜柱及环形微磁芯表面;步骤五、在塑封料表面电镀第二层铜线路,从而实现内外两圈铜柱之间依次错位连接;步骤六、对第二层铜线路进行包封,完成基板内置环形微磁性电感结构。本发明一种基板内置环形磁芯电感的工艺方法,它通过基板制作工艺把高Q值磁芯环形电感小尺寸地集成到基板里,既能保持环形磁芯电感的优点,又能减小整个封装结构的尺寸。 | ||
搜索关键词: | 一种 内置 环形 电感 工艺 方法 | ||
【主权项】:
一种基板内置环形磁芯电感的工艺方法,其特征在于所述方法包括以下步骤:步骤一、在载板表面做出第一层铜线路;步骤二、在第一层铜线路上电镀形成内外两圈铜柱;步骤三、在内外两圈铜柱之间加入环形微磁芯,磁芯厚度不高于铜柱高度,磁芯大小与内外两圈铜柱间隙相等,即磁芯大小刚好卡置于内外两圈铜柱之间;步骤四、对载板表面进行包封减薄,露出铜柱及环形微磁芯表面;步骤五、在塑封料表面电镀第二层铜线路,从而实现内外两圈铜柱之间依次错位连接,第一层铜线路、内外两圈铜柱和第二层铜线路形成依次缠绕在环形微磁芯上的线圈;步骤六、对第二层铜线路进行包封,完成基板内置环形微磁性电感结构。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于江苏长电科技股份有限公司,未经江苏长电科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410785623.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种改善剥落型缺陷的方法
- 下一篇:X射线装置以及具有该X射线装置的CT设备
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造