[发明专利]钕离子掺杂氧化钪氧化镥混晶激光材料及其制备方法有效
| 申请号： | 201410789277.7 | 申请日： | 2014-12-17 |
| 公开（公告）号： | CN104498034A | 公开（公告）日： | 2015-04-08 |
| 发明（设计）人： | 姜本学;张阳;张龙;范金太;张攀德;毛小建 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | C09K11/78 | 分类号： | C09K11/78 |
| 代理公司： | 上海新天专利代理有限公司31213 | 代理人： | 张泽纯;张宁展 |
| 地址： | 201800上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种钕离子掺杂氧化钪氧化镥混晶材料及其制备方法，钕离子掺杂氧化钪氧化镥混晶材料的分子式为：Nd：LuxSc2-xO3，其中x的取值范围为：0.1≤x≤1.9。Nd3+是典型的四能级离子，由于激光下能级与基态相距较远，所以泵浦阈值较低，且它的吸收截面和发射截面都比较大，是非常好的激光增益介质。Nd：LuxSc2-xO3激光材料优异的光学特性、热学性能使其成为发光二极管，产生超短脉冲飞秒激光的增益介质的完美选择。 | ||
| 搜索关键词： | 离子 掺杂 氧化 镥混晶 激光 材料 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种钕离子掺杂氧化钪氧化镥混晶激光材料，其特征在于该激光材料的分子式为Nd：LuxSc2‑xO3，其中x的取值范围为：0.1≤x≤1.9。
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