[发明专利]一种光控型可调太赫兹波衰减器及其使用方法在审

专利信息
申请号: 201410790152.6 申请日: 2014-12-17
公开(公告)号: CN104407453A 公开(公告)日: 2015-03-11
发明(设计)人: 王昌雷;武帅 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第三十八研究所
主分类号: G02F1/01 分类号: G02F1/01
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 230001 安徽省合*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明公开一种光控型可调太赫兹波衰减器。该衰减器包括硅基-硅基-氧化钒薄膜(1)、激光发射器(2)、球面准直透镜(3),所述硅基-二氧化钒薄膜(1)垂直于太赫兹波束方向,激光发射器(2)设置在硅基-二氧化钒薄膜(1)一侧,激光发射器(2)与准直器(3)相连,激光发射器(2)发出的激光从准直器(3)射出,照射在硅基-氧化钒薄膜(1)的膜面上,并且照射在硅基-氧化钒薄膜(1)的膜面上的激光光斑完全覆盖透射的太赫兹波斑。本发明还公开一种光控型可调太赫兹波衰减器的使用方法。本发明的优点在于:结构简单,易与现有的各类太赫兹波发射源集成,衰减的调节速度快,易控制,主要运用于太赫兹波应用技术领域。
搜索关键词: 一种 光控 可调 赫兹 衰减器 及其 使用方法
【主权项】:
一种光控型可调太赫兹波衰减器,其特征在于:包括硅基‑硅基‑氧化钒薄膜(1)、激光发射器(2)、球面准直透镜(3),所述硅基‑二氧化钒薄膜(1)垂直于太赫兹波束方向,激光发射器(2)设置在硅基‑二氧化钒薄膜(1)一侧,激光发射器(2)与准直器(3)相连,激光发射器(2)发出的激光从准直器(3)射出,照射在硅基‑氧化钒薄膜1的膜面上,并且照射在硅基‑氧化钒薄膜1的膜面上的激光光斑完全覆盖透射的太赫兹波斑。
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